| 型号： | Wafer-MOKE |
| 产地： | 山东 |
| 品牌： | 致真精密仪器 |
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晶圆级磁光克尔测量仪利用极向磁光克尔效应(MOKE)，快速全局检测晶圆膜堆的磁性。非接触式测量，避免了传统磁性表征对晶圆的破坏，可应用于图形化前后的样品检测。
晶圆级垂直磁光克尔测量仪
样品尺寸:最大支持12 英寸及以下晶圆碎片测试:
磁场:最大垂直磁场优于2.5T,磁场分辨率1 μT;
磁性检测灵敏度:克尔转角检出度优于0.3mdeg(RMS)，适用多层膜堆的磁性表征;
样品重复定位精度:优于1um,静态抖动<0.25 um。
晶圆级面内磁光克尔测量仪
样品尺寸:最大支持12 英寸及以下晶圆碎片测试，
磁场:最大面内磁场优于1.4T,磁场分辨率1 μT;
磁性检测灵敏度:克尔转角检出度优于0.3mdeg(RMS),适用多层膜堆的磁性表征;
样品重复定位精度:优于1 um,静态抖动<0.25 um;样品360°任意角度旋转。
功能及应用场景
垂直/面内MRAM磁性存储器、磁传感器膜堆的磁滞回线测量;自动提取磁滞回线信息,，如自由层和钉扎层Hc、Hex、Ms等;·可自动进行连续逐点扫描，生成晶圆磁特性分布图;系统预置多点扫描模式:单点、阵列、径向分布,自定义位置列表;系统提供手动加载或全自动操作方式,满足研发/生产需求。
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