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美国Proto Flex公司PECVD(等离子增强化学气相沉积)系统能够沉积高质量SiN、SiO、SiO2薄膜、Si3N4 薄膜、非晶硅、碳化硅、太阳能材料、类金刚石、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等多种薄膜材料 和炭纳米管(CNT)等。可选用射频(RF)、空阴高密度等离子体(HCD)源、感应耦合等离子体(ICP) 源。该公司采用*技术和稳定可靠的设计为您提供多方位的服务。
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派艾斯
青岛新业环保
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