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ETInLineSys可用于测量纳米薄膜样品上单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k;
ETInLineSys可用于测量块状材料的折射率n及消光系数k;
ETInLineSys可应用于:
项目
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技术指标
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系统型号
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ETInLineSys
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结构类型
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在线式
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探头形式
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激光椭偏仪或光谱椭偏仪
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膜厚测量重复性(1)
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0.1nm (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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折射率n测量重复性(1)
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5x10-4 (对于Si基底上100nm的SiO2膜层)
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样品放置
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镀膜机内
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入射角度
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根据实际设计
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测量速度
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对于激光椭偏仪,典型0.2s~0.6s
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软件
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多语言见面切换
预设项目供快捷操作使用
运安全的权限管理模式(管理员、操作员)
方便的材料数据库以及多种色散模型库
丰富的预设模型数据库
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2012-12-28
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