项目
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技术指标
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光谱范围
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ES03V:370-1000nm
ES03U:245-1000nm
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光谱分辨率
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1.5nm
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单次测量时间
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典型10s,取决于测量模式
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准确度
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δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04°
(透射模式测空气时)
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膜厚测量重复性(1)
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0.05nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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折射率测量重复性(1)
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1x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层)
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入射角度
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40°-90°手动调节,步距5°,重复性0.02°
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光学结构
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PSCA(Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度)
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样品台尺寸
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可放置样品尺寸:直径170 mm
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样品方位调整
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高度调节范围:0-10mm
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二维俯仰调节:±4°
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样品对准
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光学自准直显微和望远对准系统
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软件
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•多语言界面切换
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•预设项目供快捷操作使用
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•安全的权限管理模式(管理员、操作员)
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•方便的材料数据库以及多种色散模型库
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•丰富的模型数据库
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选配件
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自动扫描样品台
聚焦透镜
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