仪器对比
关注
超高真空(UHV)磁控溅射系统(Sputter)
特别感谢, 宁波中科院材料所、台湾中兴大学、南京大學等 系所实验室，采用铠柏科技公司生产的超高真空(UHV)磁控溅射系统(Sputter)。
本公司能在德、日主流大厂环绕下，用坚强的研发团队及厚实的经验，为广大科研人员提供高性能的客制化实验设备及制程解决方案。
原理介绍
超高真空(UHV)磁控溅射系统(Sputter)是利用外加电场解离腔体中的惰性气体(EX:氩气Ar)，磁控溅射膜藉由外加磁场改变电子的螺旋移动增加移动距离，增加惰性气体离子化的机会。
游离的正离子受电场吸引，射往带负电的靶材，并将靶材粒子撞击出并产生二次电子，粒子到达样品进行薄膜成长，电子则在被加速至阳极的过程中促成更多解离；溅射一般工作压力约为2╳10-2Torr。系统优点
- 成长速度快(磁控设计)
- 可大面积镀膜，且均匀度高
- 靶材溅射粒子速度快、附着力佳
- 可镀制合金材料
- 可镀制绝缘材料(使用交流电源供应)
规格
- 标准配备德国Pfeiffer涡轮分子泵。
- 真空抽气经烘烤后可到5╳10-10torr 。
- 1到6吋样品座
- 样品手臂可进行XYZ三轴移动
- 样品可升温至850°C，具旋转功能(最快20RPM)
- 气体流量控制
- 制程屏蔽控制
- 膜厚计制程监控
典型用户
| 用户单位 | 采购时间 |
|---|---|
| 寧波中科院材料所 | 2012-11-15 |
| 南京大學 | 2012-03-20 |
- 相关仪器
- 相关资料
超高真空(UHV)磁控溅射系统(Sputter)信息由台灣鎧柏科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于超高真空(UHV)磁控溅射系统(Sputter)报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
相关产品
