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超高真空(UHV)双电子束蒸镀系统(E-gun)
特别感谢,台湾中山科学研究院实验室，采用铠柏科技公司生产的超高真空(UHV)双电子束蒸镀系统(E-gun)
本公司能在德、日主流大厂环绕下，用坚强的研发团队及厚实的经验，为广大科研人员提供高性能的客制化实验设备及制程解决方案。
原理介绍
双电子束蒸镀系统(E-gun)的原理与热蒸镀接近，皆是利用镀膜材料加热后产生蒸气，之后蒸气上升附着到样品上产生薄膜。
是电子枪是以高能电子束作为加热源，以强大电场(数kV以上)将电子由灯丝吸引出来，之后由外加磁场之徧折电子束，使电子束直接轰击靶材，电子动能被靶材吸收而达到使靶材升温之效果。
系统优点
- 加热的范围可局限在镀膜材料表面极小范围，加热效率比较好。
- 高能量电子束能使高熔点元素达到足够高温以产生适量的蒸气压。
- 电子束可聚焦，能局部加热蒸发，因不加热其他部分而减少大部分污染。
- 镀膜密度高，高熔点材质也可镀膜。
- 但蒸镀时通常必须在高真空的环境下进行，使沉积的薄膜达到高纯度的要求。
- 可以将兩种金属置于不同的兩个蒸发源中进行合金蒸镀，但是难以精确控制薄膜的合金成分比例。
典型用户
| 用户单位 | 采购时间 |
|---|---|
| 台灣中山科學院 | 2012-09-03 |
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