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GV2012B-1型离子溅射仪
Sputter Coater
离子溅射仪是专为扫描电镜制作样品而设计的，该产品具有结构简单、使用方便、易操作等特点，操作过程自动化程度高。
该机采用嵌入式系统进行各项操作的控制，可以方便的进行制样的各项设置，溅射的时间可以根据样品要求的不同自行设置，并且可以对系统的工作过程进行全方位的监控，将重要的数据实时显示，使用户对样品制备过程可控；特殊设计的钟罩边缘橡胶圈进行密封，可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象；
根据电场中气体电离特性，采用大容量样品溅射真空室和相应比例面积的溅射靶，从而可以保证溅射镀层更加均匀。
因此，该设备特别适用于电镜实验室的SEM样品制备和新材料研究的镀膜电极制作。
组成：
1 产品组成部分
该产品主要由以下几部分组成：真空样品室（用高分子有机玻璃制成），主要部件包括阴极靶和样品台（阳极）；控制箱，内含真空电阻规、高压电源、电磁流量阀、收据采集系统、真空管道系统、氩气控制系统、嵌入式控制系统等；真空泵。
2 控制界面
该产品采用嵌入式控制系统，控制界面友好，便于进行操作
主要参数
1、额定电压：220V；
2、额定频率：50Hz；
3、额定功率：380W；
4、金靶规格：直径67mm，厚度0.2mm；
5、真空室规格：直径132mm，高度120mm；
6、溅射面积：55mm
7、最高电压：2000V；
8、真空泵：型号 VRD-8
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