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微波等离子去胶机

报价 ¥5万 - 10万

品牌

阿尔法

型号

Q系列

产地

欧洲德国

应用领域

暂无

微波等离子系统全自动系列




简介:

ALPHA Plasma 在半导体和电子行业里是一个全球化运营的微波等离子系统设备供应商。

我们专注于为晶圆制造和芯片封装产业提供先进的低压微波等离子技术。

我们的目标不仅仅是提供我们的精密设备,更是为我们客户提供一个能改进工艺的一站式等离。

ALPHA Plasma 的Q系列产品主要包括批处理式的2.45Ghz微波等离子去胶机,可以快速且无害的去除光刻胶。并且可以满足大多数在Descum过程中对一致性的严格要求。

除此之外,当Alpha Plasma Q系列产品配置一个晶圆用的加热卡盘时,它同样可用于单片晶圆的其他苛刻应用,比如SU-8,PI去除等。

技术选型指南:


Q 150

Q 235

Q 240

Process Chamber

石英 Quartz

Glass


Chamber Size(mm)

φ150 x L260

φ240 x L260

φ240 x L460


Volume(L)

6

11

21


最大样片尺寸 Wafer Size

4”

6”

8”

 

Chamber door

铝制抽屉式,带微波屏蔽观察窗Aluminum,drawer type door with viewing port


工作压力 Working Pressure(Pa)

≤100

 

Microwave Source

2.45GHz,50~600W连续可调50~600W Adjustable

2.45GHz,50~1200W连续可调50~1200W Adjustable


 

Gas Supply

标配2MFC控制最大支持6

2 MFC Standard,Max to 6

标配3MFC控制最大支持6

3 MFC Standard,Max to 6


 

Vacuum Gauge

Pirani, 1~1*105 Pa

Baratron, 1~1000Pa


Vacuum Valve

电子气动阀 Electro-pneumatic valve


显示屏尺寸 Display Size

7”

10.4”

10.4”

Interface

Ethernet,USB,RS 232


 

 

System Control

正版Windows Embedded Compact 2013,触摸控制图形界面显示, 图形化参数设置;支持权限控制、安全互锁、多级菜单设置;可保存并 导出运行、报警、错误等数据;导出数据格式兼容Windows Office软件。

Windows Embedded   Compact 2013, Graphical user interface Software.


Dimensions(mm)

W500*H370*D550

W620*H500*D550

W760*H775*D775


Weight(Kg)

40

70

95


Utilities

1 connection 3/N/PE AC 50/60 Hz 400/240 V 16 A


Vacuum Pump

标配干泵,可选配油泵 Dry pump or oil pump on request.


Options:





Wafer Boat


Light Tower

-


HT加热台盘 Heating Chuck

-

TC温控台盘

Temperature Control Chuck

 

-


典型用户
用户单位 采购时间
深圳大学 2018-10-16
中山大学深圳泌尿外科医院 2018-04-19
台州学院 2018-10-19
中科院微系统所 2018-07-27
香港科技大学 2017-11-15
郑州大学 2016-11-26
上海复旦大学 2016-09-26
上海交通大学 2016-12-26
合肥工业大学 2016-03-30
兰州大学 2016-04-10
售后服务

7天

1年

安装调试现场免费培训

到货后7天内

2小时内

1天内

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