PE-ALD 等离子体增强--原子层沉积
ALD逐层沉积,在三维形貌沉积中保持高的均匀性,通过工艺过程中分步添加前置物,可以准确的控制膜厚和薄膜特性折射率和消光系数。PE-ALD是一种先进的方法,通过将自由基(radical)的气体样品,而不是水(沉积过程中作为氧化物oxidizer)。
ALD逐层沉积,在三维形貌沉积中保持高的均匀性,通过工艺过程中分步添加前置物,可以准确的控制膜厚和薄膜特性折射率和消光系数。PE-ALD是一种先进的方法,通过将自由基(radical)的气体样品,而不是水(沉积过程中作为氧化物oxidizer)。
第一台PE-ALD,目前已经安装在TU Braunschweig。用于沉积Al2O3 和ZnO。新的ALD系统,包括热和等离子体辅助工艺,并使用SENTECH的椭偏仪监控沉积。SENTECH提供前沿的超快在线的激光椭偏仪或光谱椭偏仪,监控薄膜的生长.
对于沉积Al2O3, TMA (C3H9Al) 和等离子体产生氧原子,衬底温度80?°C - 200?°C。PEALD薄膜具有高的膜厚均匀性和小的折射率变化。
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