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净化型匀胶机广泛用于半导体硅片的匀胶镀膜等，例如对大型晶圆、芯片、晶片等进行工艺制版时，可用此设备进行各种胶体的表面涂覆或光刻工艺匀胶；是集成电路及半导体器件生产过程中涂覆匀胶的专用设备 。该设备中涂胶部分含有两个工位的匀胶台，可分别独立工作，也可两台同时工作。
设备特点：
1、带有100级空气净化装置，可有效除去匀胶台周围空气中的污染微尘，防止
匀胶过程中的杂质污染。
2、 设置有LED照明灯，可程控照明，非常方便日常操作。
3、可设置时间--转速曲线，程序控制匀胶工艺
4、7英寸液晶显示屏，操作简单易学无需专业学习
主要技术参数：
匀胶时间：1-99秒
匀胶转数：0-8000转/分
净化效果：100级（美国联邦标准）
操作区风速：0.3-0.5米/秒(有效操作区气流状态：垂直层流()
适用于φ8mm-φ100mm晶体硅片及其它材料等匀胶
外形尺寸：650x750x1620mm
外体颜色：亚白色
控制范围和精度：转速控制范围为：500-8000转，精度为±3%
时间控制范围为：1-99秒，精度为±5%
转速调整：采用PID调节，精度高。
转速查看智能化：可自动识别哪个电机开或关，自动转换到开启的电机上。可予先选定，也可在运行中随时查看任一电机的转速。
1年
否
有
2人次技术培训
一年一次
免费维修
24小时内响应
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