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双靶磁控溅射镀膜仪
双靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的配有两个靶位的小型实验室用镀膜仪，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。
磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。
与同类设备相比，这款双靶磁控溅射镀膜仪不仅应用广泛，且体积小便于操作，是一款实验室制备薄膜的理想设备。
技术参数：
项目 | 明细 | |
供电电压 | AC220V，50Hz | |
整机功率 | 3KW | |
极限真空度 | 10-6torr | |
载样台参数 | 尺寸 | φ140mm |
加热温度 | 最高500℃ | |
控温精度 | ±1℃ | |
转速技术参数：
| 1-20rpm可调 | |
磁控溅射头参数 | 数量 | 2个2”磁控溅射头 |
冷却方式 | 水冷，所需流速10L/min | |
水冷机规格 | 16L/min流速的循环水冷机 | |
真空腔体 | 腔体尺寸 | φ300mm X 300mm H |
腔体材料 | 不锈钢 | |
观察窗口 | φ100mm | |
开启方式 | 上顶开式，便于更换靶材 | |
气体流量控制器 | 4路分别通N2，Ar，O2，空气； 量程均为0-500sccm | |
真空泵 | 配有一套分子泵系统，抽速600L/S | |
膜厚仪 | 石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10 ? | |
溅射电源 | 直流电源一台，500W，适用于制备金属膜 射频电源一台，300W，适用于非金属镀膜 | |
操作方式 | 面板按钮操作 | |
整机尺寸 | 1400mm X 750mm X 1300mm | |
整机重量 | 300kg | |
1年
否
有
2人次技术培训
一年一次
免费维修
24小时内响应
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