TRYMAX 等离子除胶机
型号:NEO系列
TRYMAX该公司主要提供半导体等离子清洗、去胶、活化设备。
Trymax目前拥有半自动、全自动系列设备供用户选择,目前已有上百台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统、微流体器件、SOI基片制造、先进封装、化合物半导体器件、功率器件和光电显示等领域。
一、设备工作原理
等离子体是物质的一种存在状态,该状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。
Trymax NEO Series就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频/微波电源在一定的真空条件下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。
二、Trymax NEO Series 应用
前道:Light Etching;Descum strip;PR Ashing;离子注入后,光刻后,镀膜前等工艺过程; 后道/先进封装/3D IC:Descum Bumping;MEMS;Plasma Treatment;Wafer Cleaning等。
NEO 2000产品系列是先进的等离子灰化/
来自Trymax Semiconductor Equipment的蚀刻系统
采用最新的光刻胶去除技术
卓越的性能,极具竞争力的价格。该
NEO 2000专为应用而设计
直径100mm至200mm的基板。
它配备了超快的传输平台
灵活且可配置,可处理不同尺寸
基板同时没有硬件变化。
NEO 2000系列采用紧凑的模块化设计
可以提供高吞吐量以实现最低成本
所有权。
1年
是
有
技术人员现场培训
2个月1次
软件免费重装,硬件维修
24小时到达
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