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100nm超高精度双光子聚合光刻微纳无掩模直写系统 品质保证----国家级实验室
| 型号 | D100 |
| 典型加工线宽 | 100nm |
| 最小加工线宽 | 50nm |
| 最小特征结构均匀度 | 5nm |
| 最大线扫描速度 | 50mm/s |
| 电力要求 | 220V AC 50HZ |
超高精度双光子聚合光刻微纳无掩模直写系统应用领域：
工业：无掩膜版制造、医疗器械、晶圆级微纳加工、光子封装、快速原型制作、小批量系列生产
生物医学应用：细胞支架、皮肤/组织模型、智能/活体材料、微针阵列、药物输送载体、纳米/柔性机器人、血管模型、细胞力学和迁移的拓扑结构、生物传感器、亚微米级图案设计
科研:生命科学、材料工程、微流控技术、微纳力学及MEMS、折射微光学、衍射为光学、集成光子学、光学传感、量子技术
超高精度双光子聚合光刻微纳无掩模直写系统材料：
光刻胶：生命科学用光刻胶、石英玻璃光刻胶、光刻负胶、无机固态光刻胶、有机无机杂化光刻胶、功能性光刻胶等
联系人：平生
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