国产
1920 × 1080像素
LED: 405 nm or 385 nm
光刻图案设计灵活
高稳定性,操作便捷
特征线宽0.6 μm
所见即所得的精准套刻
6英寸大面积光刻
利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间 选择性的曝光,进而将设计好电路版图转移到 硅片上形成集成电路,这一工艺就是紫外光刻 技术。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了 所制造的集成电路的集成度,也成为了评价光 刻设备品质的关键指标。激光直写设备具备很 高的灵活性,且可以达到较高的精度,但由于 是逐行扫描,曝光效率较低。托托科技的无掩 模版光刻设备基于空间光调制器(DMD/DLP) 的技术,实现了高速、高精度、高灵活性的紫 外光刻。
60天
1年
安装调试现场免费培训
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