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VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻机为光掩模（0.8至1.4
m）的高通量图案化而定制。VPG1400是我们专为显示行业设计的最大的系统。它是平板显示器 （FPD） 应用的好的选择，例如 TFT
阵列、彩色滤光片和 ITO。这些工具还用于先进封装、半导体、LED 和触摸屏应用的工业大面积光掩模应用。
大光刻面积VPG+：技术的领航
大光刻面积的VPG +维持原VPG系列为根基再进化，使其更加出色。VPG于2007年推出; 是拥有专利的量产型曝光技术光刻系统，可靠和经济的解决方案，适用于要求严谨的掩膜板制造。
速度更快：超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研发的高速光学调制器，在速度最大化下，曝光时间可以达到原始VPG的三倍！强化了曝光动能与数据传输路径。
功能和选项：配备性能
VPG +可配置各种平台尺寸，最大可达1400mmx1400mm。 该系统具有355nm波长的紫外激光源，空气轴承平台，半自动或全自动入料器，用于基板装载和最先进的温控环境室。
应用：光罩制造和直接写入
大光刻面积的VPG
+系统适用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters,
light emitting diodes, touch panel以及life
science应用。出色的图像质量和对位功能，也非常适合在大面积执行多层套刻直写。
VPG+ 最大型的设备VPG+ 1400专门针对显示器相关行业应用：是所有VPG+系列中功能最强大，具有极其完善的温控环境室，差分干涉仪和先进的mura校正以及面板间距优化功能。
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