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产品概述：
ULTRA半导体光掩模光刻机是门用于成熟半导体光掩模的合格激光掩模机。半导体光掩模用于制造电子设备，包括微控制器、电源管理、LED、物联网 （IoT） 和 MEMS。
操作 | |
用户界面（软件） |
半兼容 GUI |
大写入区域 | 228 x 228 mm² （可根据要求提供其他尺寸） |
基板尺寸 | 4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩（可根据要求提供更大的和其他基材） |
系统特点 | |
光学 | 0.9 NA物镜 |
激光 | 355nm波长的高功率二管泵浦固体激光器 |
对焦系统 | 实时光学自动对焦 |
对准 | 摄像系统 |
数据路径 |
实时压缩 |
空间光调制器 |
频率 350 kHz |
自动化 |
全自动口罩处理，带两个大 9 英寸的输送站;可选的 SECS/GEM 协议 |
系统尺寸 |
系统 / 电子机架 |
宽度 [mm] | 2995 / 800 |
深度 [mm] | 1652 / 650 |
高度 [mm] | 2102 / 1800 |
重量 [kg] | 3400 / 180 |
安装要求 | |
电气 | 400 VAC ± 5%，50/60 Hz，16A，3 相 |
压缩空气 | 7 - 10 bar （不含油或其他残留物） |
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
ULTRA 激光掩模光刻机信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于ULTRA 激光掩模光刻机报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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