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1. 产品概述：
MLA 300 无掩模光刻机 提供高吞吐量、简化的工作流程以及与制造执行系统 （MES） 的集成。该工具用于生产传感器和传感器 IC、MEMS 和微流体器件。其他应用包括分立电子元件、模拟和数字 IC、ASIC、电力电子、OLED 显示器和先进封装。
MLA 300 可实现高的光学质量和精度。标准曝光模块的小特征尺寸为 1.5 μm。实现更高吞吐量和更高分辨率的写入模式正在我们的路线图上。MLA 300 具有自动化功能，具有可定制的装载选项、为生产环境设计的软件以及获得基材跟踪技术。
MLA 300 克服了口罩采购、验证和管理的要求，从而降低了生产成本和工作量。长寿命曝光激光器（24/7 全天候生产估计为 10 年）和较少的耗材可提高运营成本。模块化设计可实现快速维护、更换或维修。实时自动对焦可补偿基材翘曲或波纹，确保无瑕的图案。无掩模光刻技术允许对每个芯片进行图案校正和序列化，以全面跟踪产品特性，例如传感器校准。
| 具体参数 | |
|---|---|
| 最小行数和间距 [μm] | 2 |
| 最小特征尺寸 [μm] | 1.5 |
| CD均匀度 [3σ， nm] | 200 |
| 边缘粗糙度 [3σ， nm] | 80 |
| 拼接 [3σ， nm] | 120 |
| 第 2 层对准 [3σ， nm] | 500 |
| 背面对准 [3σ， nm] | 1000 |
| 每个模块的曝光时间（100 x 100 mm² 80 mJ/cm² 和 405 nm 激光波长） | 2.75 分钟 |
| 一个模块的最大写入速度 405 nm 激光波长 | 4615 平方毫米/分钟 |
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
MLA 300 无掩模光刻机信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于MLA 300 无掩模光刻机报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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