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1. 产品概述
PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是研究、原型设计和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高性能工艺。
2. 特色参数
直开式设计允许快速装卸晶圆
出色的刻蚀控制和速率测定
出色的晶圆温度均匀性
晶圆大可达200mm
购置成本低
符合半导体行业 S2 / S8标准
小尺寸系统——易于安置
优化了的电冷却——衬底温度控制
高导通的径向（轴对称）抽气结构—— 确保提升了工艺均匀性和速率
增加了<500毫的数据记录功能——可追溯腔室和工艺条件的历史记录
近距离耦合涡轮泵——提供优秀的泵送速度加快气体的流动速度
关键部件容易触及——系统维护变得直接简单
X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力， 并且可以实现更快更可重复的匹配
通过端软件进行设备故障诊断——故障诊断速度快
用干涉法进行激光终点监测——在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物)，或者用反射法来确定非透明材料 (如金属) 的边界
用发射光谱（OES）实现较大样品或批量工艺的终点监测—— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化，以及用于腔室清洗的终点监测
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
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