仪器对比
关注
样本下载
仪器简介：
此产品广泛应用于：半导体、纳米材料、钠米科技、薄膜材料、薄膜沉积以及航空航天领域。
PICOSUN公司是一个国际化的设备制造商，在全球有销售和服务机构.我们开发和制造原子层沉积反应器用于微米和纳米技术应用。PICOSUN为客户提供用户友好，可靠及多产的ALD工艺工具，提供从研发到生产的工业放大。PICOSUN基地在芬兰的espoo，美国总部在Detroit。SUNALE型ALD工艺工具被用于欧州、美国及亚洲前沿的科学机构、公司。
PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业技术。Tuomo Suntola博士，于1974年发明了ALD技术，是PICOSUN董事会的成员。我们的首席技术官SVEN LINDFORS从1975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲，PICOSUN拥有了200多年的ALD经验并贡献了100多项ALD专利。我们悠久的历史和广泛的背景使PICOSUN成为ALD技术优质的合作伙伴。
技术参数：
技术指标
SUNALE™ R系列技术特点
基本特点：
晶片尺寸 2-6”, 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request)
工艺温度 Up to 500°C
反应室体积 小型、中型、大型
反应室材料 316 SS, Ti, Ni, Al (quartz)
前驱体 2-6 气体 / 气体 / 固体
基片装载 气体升降
尺寸：
尺寸 27.6 x 41.3 x 36.4’’, 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)
重量 200 kg
工况：
电源 100-240 V, 50/60 Hz, 1- or 3-phase, 3.7 kW Vac
真空泵 30-80 m3/h
载气 99.999 % N2 / Ar, min. 2 slm
压缩空气 4-5.5 bar 过压
冷却水 反应器不需要
排气 为真空泵及源橱柜配备
样品装载选项：
Picoloader™手动样品装载系统，带一个预真空室和闸阀
主要特点：
特点
多功能的反应器设计
全套的服务
-
等离子增强原子层沉积系统沉积高均匀性和高保型性介电薄膜电子/电气 2019-06-24
| 用户单位 | 采购时间 |
|---|---|
| 桂林电子科技大学 | 2016-06-11 |
| 中国科学院微电子所 | 2012-05-16 |
| 中国科技大学 | 2015-07-01 |
| 清华大学 | 2017-10-25 |
| 中科院广州能源所 | 2016-11-01 |
| 深圳大学 | 2015-01-06 |
| 南方科技大学 | 2018-09-20 |
| 中山大学 | 2013-06-15 |
| 北京大学 | 2019-05-10 |
| 华南理工大学 | 2008-06-16 |
相关产品
