型号: | EVG 301 |
产地: | 奥地利 |
品牌: | EVG |
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应用领域: |
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EVG300系列兆声清洗系统:EVG301
一、 简介
EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商,其丰富的产品系列包括:涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。
目前已有数千台设备安装在世界各地,被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件,SOI基片制造,3D封装,纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域。
EVG300系列配备1MHz,30-60W的兆声波清洗头,能有效地去除亚微米(>0.1um)颗粒。可与EVG键合机和对准机实现无缝衔接,以保证键合前硅片的洁净度,是实现SOI、Si-Si直接键合等工艺的必要手段。同时,EVG300系列也是高精度单片清洗工序的必备设备。
二、应用范围
EVG300系列是一款单晶片或掩膜板清洗系统,面向以研发和小批量生产为主的客户,广泛应用于光刻掩膜板清洗、硅片直接键合、SOI键合前处理和其它相关领域。
三、主要特点
u 单片清洗,基片正面与背面间无交叉污染
u 稀释的化学液体清洗,有效地节省了成本
u 基片旋转甩干,最大转速可为3000转/分刷片清洗
u 软件可编程控制刷头移动速度及基片旋转速度
u 1MHz兆声清洗或兆声板式清洗(可选)
u 单面刷洗(可选)
u 其它选项
- 带有IR检测的预对准台
- 应对非SEMI标准的硅片夹具
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