RIE反应离子刻蚀 SI 591 SENTECH RIE SI 591_价格_北京亚科晨旭科技有限公司

RIE反应离子刻蚀 SI 591

参考价：¥200万 - 300万

型号：

SENTECH RIE SI 591

产地：

德国

品牌：

评分：

产品详情

RIE反应离子刻蚀 SI 591

反应离子刻蚀机SI 591采用模块化设计，可满足III/V半导体和Si加工工艺领域的的灵活应用。 SENTECH SI 591可应用于各种领域的蚀刻工艺中，能够完成多种刻蚀加工。

主要特点:

高均匀性和优重复性的蚀刻工艺

预真空锁loadlock

电脑控制操作

SENTECH高级等离子设备操作软件

数据资料记录

穿墙式安装方式

刻蚀终点探测

系统配置:

平行板式反应线圈，13.56 MHz (600 W)

喷淋头式进气

预真空锁loadlock，带有取放机械手

绝缘、冷却和加热电极(-25℃至80℃)，基底4"-8"直径，基底托架可支持小片材料和多晶圆。

PLC控制, PC

SENTECH高级等离子设备操作软件

特性:

全自动/手动过程控制

Recipe控制刻蚀过程

智能过程控制，包括跳转、循环]调用recipe。

多用户权限设置

数据资料记录

LAN网络接口

Windows NT 操作软件

选项:

增加气路

PE电极

外部反应腔加热

下电极温度控制(+20oC ... +80oC)

循环冷却器(5oC ... 40oC)

CS化学尾气净化

Cassette到cassette操作方式

穿墙式安装

干涉式终点探测和刻蚀深度测量系统

在线椭偏测量(SE 401, SE 801)

RIE反应离子刻蚀 SI 591信息由北京亚科晨旭科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于RIE反应离子刻蚀 SI 591报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。除供应RIE反应离子刻蚀 SI 591外，北京亚科晨旭科技有限公司还可为您提供其他等产品，公司有专业的客户服务团队，是您值得信赖的合作伙伴。