薄膜激光位量仪

仪器信息网薄膜激光位量仪专题为您提供2024年最新薄膜激光位量仪价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括薄膜激光位量仪参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的薄膜激光位量仪您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合薄膜激光位量仪相关的耗材配件、试剂标物,还有薄膜激光位量仪相关的最新资讯、资料,以及薄膜激光位量仪相关的解决方案。
当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

薄膜激光位量仪相关的厂商

  • 深圳市威斯利激光设备有限公司,最早成立于2010年,一直从事激光在广告,轻加工行业等领域的研究与制造。公司集研发、生产、销售、维修服务为一体,专业制造整套型号的光纤激光打标机,紫外激光打标机、绿光激光内雕机、CO2激光打标机、CO2激光贺卡切割机、CO2激光切割机、CO2激光雕刻机、激光焊接机等系列产品。 威斯利激光系列产品已被广泛应用于广告行业、工艺礼品、建筑模型、电子、装饰装潢、服装、标识、印章等多种行业。 到目前为止,公司产品已通过国家ISO9001、欧盟CE、美国FDA等认证;设备性能稳定,操作维护简便,在国内同类产品中占有很高的性价比,深得广大客户的青睐和好评。 产品远销俄罗斯、加拿大、美国、墨西哥、西班牙、巴西、英国、波兰、挪威、意大利、摩洛哥、伊朗、马来西亚、印度、澳大利亚、新西兰等100多个国家。---西门子,DOOSANS,SGD Pharma的供应商。 威斯利激光公司成员:是一支年轻化、专业化的技术团队。威斯利激光公司理念:智,信,锐意,敢担当!威斯利激光公司愿景:力争做中国最好的激光打标、激光雕刻、激光切割、焊接工艺解决方案供应商。让客户开心!致力于为全球客户提供最优质的激光设备!
    留言咨询
  • 北京昊然伟业光电科技有限公司(昊然伟业)成立于2010年,致力于光电子领域, 是众多世界知名光电产品的领先供应商。昊然伟业主要人员具有在光电科技近10年的生产、研发及销售经验,与业界专家保持良好的合作关系。代理产品主要有以下6类: ※光学元件加工参数测量仪器: 精密测角仪、波片相位延迟测量仪、光电自准直仪、干涉指零仪等。※光学材料性能参数测量仪器: 弱吸收吸收测量仪、折射率测量仪、X射线衍射仪等。 ※光学薄膜参数测量仪:薄膜弱吸收测量仪、高反膜反射率测量仪等。 ※光谱仪器:光纤光谱仪、微型傅里叶红外光谱仪、便携式光谱辐射度计等。 ※ 光器件 :可调相位波片、偏振光转换仪、电动可调焦距镜片等 ※ 激光器类:各种he-ne激光器、高稳定性固体激光器及相关激光电源等。 昊然伟业凭借在业内的良好信誉,在国内获得了越来越多客户的认可。昊然科技的客户服务理念是: 从项目调研阶段着手,协助客户选择合适的解决方案。 项目启动阶段,协助客户做好各项手续。 项目调试阶段,协助培训操作人员。 项目使用阶段,及时为客户解决遇到的任何硬件及软件问题。   昊然伟业愿以专业的知识、真诚的服务态度,为用户提供专业、快捷、优质的服务。我们期望为您提供合适的产品,助力您企业的成长。欢迎您通过各种方式联系我们。也请您多关注我们的技术博客:http://opcrown.i.sohu.com/ 电话: 010-51606423
    留言咨询
  • 昆山瑞博骏激光科技有限公司是一家专业从事激光行业配件产品的研发,生产和销售的高新科技企业,主要致力于激光打标机、切割机和焊接机等激光设备易损件的销售供应,主要产品有: Nd:YAG激光晶体棒、激光灯(氪灯、氙灯)、激光护目镜(激光眼镜、光子美容眼镜眼罩)、光学扫描振镜、聚焦镜、全反镜、输出镜、扩束镜、Q开关及驱动器 (声光Q开关、电光Q开关)、滤紫外管、调光相纸、倍频片、激光电源等 因为专业,所以卓越。公司始终坚持以市场为导向,以技术为核心,以服务为宗旨的方针,积极研发,生产满足客户需求的各类激光配件产品,专注于为客户提供更专业、更细致的激光技术服务。
    留言咨询

薄膜激光位量仪相关的仪器

  • 材料的热物理性质以及最终产品的传热优化在工业应用领域变得越来越重要。经过几十年的发展,闪射法已经成为常用的用于各种固体、粉末和液体热导率、热扩散系数的测量方法。薄膜热物性在工业产品中正变得越来越重要,如:相变光盘介质、热电材料、发光二极管(LED ) ,相变存储器、平板显示器以及各种半导体。在这些工业领域中,特定功能沉积膜生长在基底上以实现器件的特殊功能。由于薄膜的物理性质与块体材料不同,在许多应用中需要专门测定薄膜的参数。基于已实现的激光闪射技术,LINSEIS TF-LFA 薄膜导热测试仪(Laserflash for thin films)可以测量80nm——20μm厚度薄膜的热物理性质。 1.瞬态热反射法(后加热前检测(RF)):由于薄膜材料的物理性质与基体材料显著不同,必需要有相应的技术来克服传统激光闪射法的不足,即瞬态热闪射法。测量模型与传统激光闪射法相同:检测器和激光器在样品两侧。考虑到红外探测器测试薄膜太慢,因此检测是通过热反射方法完成的。该技术的原理是材料在加热时,表面反射率的变化可最终用于推导出热性能。测量反射率随时间的变化,得到的数据代入包含的系数模型里面并快速计算出热性能。2. 时域热反射法(前加热前检测(FF)):时域热反射技术是另一种测试薄层或薄膜热性能(热导率,热扩散率)的方法。测量方式的几何构造被称为“前加热前检测(FF)”,因为检测器和激光在样品上的同一侧。该方法可以应用于非透明基板上不适合使用RF技术的薄膜层。 3. 瞬态热反射法(RF)和时域热反射法(FF)相结合:两种方法可以集成在一个系统中并实现两者优点的结合。温度范围*RT RT -- 500°C-100°C -- 500°C 激光器 Nd:YAG 激光脉冲电流≤90mJ (软件控制)脉宽8 ns激光探头HeNe-激光器 (632nm), 2mW前端热反射 Si-PIN-Photodiode, 有效直径: 0.8 mm, 直流电压 … 400MHz, 响应时间: 1ns后端热反射quadrant diode, 有效直径: 1.1 mm直流电压 … 100MHz, 响应时间: 3.5ns测量范围0,01 mm2/s -- 1000 mm2/s样品直径圆形样品 φ10...20 mm 样品厚度80 nm -- 20 μm样品数量6样品自动进样器气氛惰性、氧化性、还原性真空度10E-4mbar电路板集成式接口USB *可更换炉体*价格范围仅供参考,实际价格与配置等若干因素有关。如有需要,请拨打电话咨询。我们定会将竭尽全力为您制定完善的解决方案。
    留言咨询
  • 薄膜测量仪 400-860-5168转4585
    总部位于德国柏林科技园区的SENTECH仪器公司,已成为光伏生产设备世界市场之 一.我们是一家快速发展的中型公司,拥有60多名员工,他们是我们有价值的资产我们団 队的每个成员都为公司的成功做出贡献,我们总是在寻找与我们志同道合的新工作伙伴,我 们诚挚期待您的加入。薄膜测量仪器反射膜厚仪RM 1000和RM 2000扩展折射率指数测量极限我们的反射仪的特点是通过样品的高度和倾斜调整进行精确的单光束反射率测量,光学布局的高光导允许对n和kffl 行重复测量,对粗糙表面进行测量以及对非常薄的薄膜进行厚度测量. 紫外-近红外光谱葩围 RM 1000 430 nm-930 nm RM 2000 200 nm - 930 nm 高分辨率自动扫描 反射仪RM 1000和RM 2000可以选配x-y自动扫描台和自动扫描软件、用于小光斑尺寸的物镜和摄像机。综合薄膜测量软件FTPadv Expert宽光谱范围和高光谱精度 SENresearch4.0光谱椭偏仪覆盖宽的光谱范围,从190 nm(深紫外)到3500 nm(近红外)。 傅立叶红外光谱仪FTIR提供了高光谱分辨率用以分析厚度高达200|jm的厚膜。 没有光学器件运动(步进扫描分析器原理) 为了获得测量结果,在数据采集过程中没有光学器件运动。步进扫描分析器(SSA)原理是SENrsearch4.0光谱椭偏仪的一个独特特性。 双补偿器2C全穆勒矩阵测量 通过创新的双补偿器2C设计扩展了步进扫描分析器SSAJ京理,允许测量全穆勒矩阵。该设计是可现场升 级和实 现成本效益的附件。 SpectraRay/4综合椭偏仪软件 SpectraRay/4是用于先进材料分析的全功能软件包,SpectraRay/4包括用于与引导图形用户界面进 行研究的交互 模式和用于常规应用的配方模式.激光椭偏仪SE400adv亚埃精度稳定的氣氤激光器保证了 0.1埃精度的超薄单层薄膜厚度测量。 扩展激光欄偏仪的极限 性能优异的多角度手动角度计和角度精度优越的激光椭偏仪允许测量单层薄膜和层叠膜的折 射率、消光系数和膜厚. 高速测量 我们的激光椭偏仪SE 400adv的高速测量速度使得用户可以监控单层薄膜的生长和终点检 测,或者做样品均匀性的自动扫描。综合薄膜测量软件FTPadvExp测量n, k,和膜厚 该软件包是为R(入)和T(入)测量的高级分析而设计的。 查层膜分析 可以测量单个薄膜和层畳膜的每一层的薄膜厚度和折射率. 大量色散模型 集成的色散模型用于描述所有常用材料的光学特性。利用快速拟合算法,通过改变模型参数 将计算得到的光谱调整到实测光谱。
    留言咨询
  • 实用高速薄膜易撕线激光打标机厂家热销易撕线激光打孔机工艺流程1.了解打孔材料以及打孔要求,易撕线激光打孔机使用于PE、PVC、PET等各种薄膜材质,以及饮料、食品、种子粮油等行业的薄膜软包激光打孔,根据加工要求的不同,可配合不同的生产流水线加工和制作易撕线和透气孔2.模拟实验与检测,初次打标需要对机器做一些相关调试,上下位置调节,激光头旋转调节等,使得打出的样品符合生产的需求,然后保存相关标刻参数,以便下次直接打标。3.设计程序,控制软件采用WINDOWS界面,可兼容CORELDRAW 、AUTOCAD 、PHOTOSHOP等多种图像软件输出的文字,支持PLT PCX BMP DXF 等多种常用图像软件格式,可直接使用SHX TTF 字库,支持自动编码,可变文本系列号、批号、日期,各种条形码及二维码的打标,可根据客户生产线的不同需要灵活修改4.操作激光打标机,易撕线激光打标机通过调整输出功率控制切割深浅;通过调整频率控制打点的疏密,形成点划线、点状线、直线易撕线,可以配合传统设备分切机、制袋机、合掌机等一起使用。设备概述: 随着激光应用领域越来越广泛,激光对薄膜包装行业应用也得到进一步提升,激光加工成为了PE、PVC、PETD等薄膜加工行业新的工艺标准。武汉三工激光是国内针对薄膜包装行业提出激光代替机械加工工艺的企业,专为薄膜易撕线、定量透气孔设计,打标速度快,设备易操作,性能稳定,使用寿命长等。SCM-55Y集合了激光技术、光学技术、精密机械、电子技术、计算机软件技术以及制冷等学科于一体的高科技产品,与传统的机械齿轮压孔相比速度更快,孔径孔距大小可调更加均匀,可以实现任意方向任意形状易撕孔标刻。该设备应用先进的激光加工技术,计算机整体控制,该激光打标机具有光束质量好,系统性能稳定,免维护,适合大批量、多品种、高速度、高精度连续生产的工业加工现场。 设备SCM-55Y-4为4台55瓦相干(美国进口)射频管激光器,采用独立板卡分别控制或者单板卡4控(一拖4结构),符合任意4种不同产品拼版打标,互相无干扰。设备架设在喷码机、分切机、制袋机等速度质量无影响,能够有效快速的生产1进4出,从而提高生产效率。设备架设4个激光头,均可以独立控制,根据实际加工产品的数量任意调整激光头出光。机械部分可以实现多个方向调整定位,传感器(日本进口)、编码器根据生产情况要求配备,本方案配备为2-4套,满足生产过程中的准确定位和检测。设备优点:1、进口激光器 :专为工业生产的工业级激光器,更快打标速度,设备在线飞行标刻易撕线速度280-300m/min(根据工艺而定)2、进口振镜 :先进的数字技术进口扫描头,确保满足24小时长期连续高效的连班生产激光加工需求。幅面300×300mm范围内实现标刻、切割任意图形。3、进口光学器件:采用全封闭光路,高精度,更细光斑尺寸,更均匀光学质量4、高精度传感器:旋转模拟编码器(国产) 检测流水线速度;RGB传感器(日本进口) 精确高速定位飞行打标位置5、数字技术 :更精细光斑质量,抗干扰,能够长线传输。严格多重保护控制设计(电网电压欠压保护,工作电流过流保护,冷却循环水流量、水位、水温保护),6、XYZ三维支架 :三维可调工作支架,工作台面可从XY方向精密定位,标准定位孔,让操作定位简单,精确。7、模块设计 :专用控制软件,实现任意形状标刻,后期模块维护方便。适用材料PE、PVC、PET等各种薄膜材质,多层符合薄膜等表面的激光易撕线,激光透气孔等工艺。适用行业广泛应用于食品印刷包装、饮料热封标签、医药外包、日用化妆品收缩膜等多种薄膜行业的定量透气孔、易撕口、热封标签激光标刻。
    留言咨询

薄膜激光位量仪相关的资讯

  • 使用OLS5100激光共聚焦显微镜对功能性薄膜进行检测
    食品包装、工业材料和医疗应用中使用的薄膜表面具有各种特性,如透明度、光泽度、防水性、防污性和非粘附性。表面处理和加工工艺用于增加各种表面功能。为了评估薄膜的表面处理和加工质量,测量表面粗糙度至关重要。这项检测会测量薄膜表面细微不平整的粗糙度,并对其进行数值量化。测量表面粗糙度的一种方法是使用3D激光共焦显微镜。在一次实验中,我们试图使用聚乙烯薄膜(食品保鲜膜)和抗静电薄膜来验证薄膜中的静电和表面粗糙度之间是否存在关系。为了进行粗糙度测量,我们使用了LEXT OLS5100 3D激光共聚焦显微镜。继续阅读以了解结果!目视比较抗静电薄膜与聚乙烯薄膜的表面状况我们能够使用OLS5100 3D激光共聚焦显微镜目视确认了这两种薄膜的表面状况。OLS5100 显微镜使用405 nm紫激光束扫描样品表面以采集3D数据。该系统与可适应405 nm波长并减少像差的专用LEXT物镜配对,可以清晰地捕获传统光学显微镜和普通激光显微镜难以捕获的精细图案和缺陷。光学系统也是非接触式的,因此,即使是薄膜等柔软样品,也无需担心会造成表面损坏。红色激光(658 nm:0.26 μm 线距)与紫色激光(405 nm:0.12 μm 线距) 在此图中,您可以清楚地看到聚乙烯薄膜的表面没有奇特的形状,并具有轻微的不平整。相比之下,抗静电薄膜则存在周期性亚微米到几十纳米的锯齿状不平整。50倍物镜下的聚乙烯薄膜(食品保鲜膜)与50倍物镜下的抗静电薄膜 量化抗静电薄膜与聚乙烯薄膜的表面状况接下来,通过使用相同的3D激光共聚焦显微镜测量表面粗糙度,量化了这两种薄膜表面的视觉不平度差异。在这一步中,重要的是选择合适的透镜来观察样品,以获得较为可靠的测量结果。得益于Smart Lens Advisor,OLS5100显微镜可以轻松确定*所选物镜是否适合样品。在本例中,系统确定专用LEXT 50倍物镜适用于薄膜的粗糙度测量。显微镜使用50倍物镜测量这两种薄膜时获得了以下结果:测量中值得注意的粗糙度参数为Sq、Sz、Sa、Sdr和Sal。以下是对这些参数的概括说明:Sq(均方根高度)、Sz(最大高度)和Sa(算术平均高度)这些参数表示与平均表面相比的不平度大小。在本例中,值较大的抗静电薄膜表示不平度较大。Sdr(界面扩展面积比)Sdr表示表面积的增长率。在本例中,具有较小Sdr值的聚乙烯薄膜表面积较小。相比之下,由于表面的不平度较大,抗静电薄膜的表面积较大。Sal(自相关长度)虽然大多数参数评估的是高度方向的粗糙度,但Sal是少数关注横向(如条纹和颗粒密度)的参数之一。Sal值越小表示形状越陡、颗粒越细。相反,Sal值越大则表示表面的不均匀形状越平缓。因此,我们可以得出结论,抗静电薄膜的Sal值越小,在不均匀表面上的颗粒状越精细。用表面粗糙度数据测定薄膜静电静电量的三个主要决定性因素是接触面积、摩擦力和湿度。在本文中,我们重点关注的是与表面粗糙度密切相关的接触面积。一般来说,物体之间的接触面积越大,产生的静电荷就越多。在这个实验中,我们可以看到物体之间接触面积小的抗静电薄膜比接触面积大的聚乙烯薄膜产生的静电小。与聚乙烯薄膜更光滑的表面相比,抗静电薄膜较大的不平度减小了接触面积。您可以在下面看到电荷量与表面粗糙度数据的关系:抗静电薄膜与聚乙烯薄膜(食品保鲜膜)
  • 上海光机所在提升电子束蒸发沉积激光薄膜的长期性能稳定研究中取得新进展
    近期,中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室在提升电子束蒸发沉积激光薄膜的长期性能稳定研究中取得新进展,实现了低应力、光谱和机械性能长期稳定的电子束激光薄膜制备。相关研究成果发表在《光学材料快报》(Optical Materials Express)。电子束蒸发沉积薄膜因其激光损伤阈值高,光谱均匀性好且易实现大口径制备而广泛应用于世界上各大型高功率激光系统中。然而,电子束蒸发沉积薄膜的多孔结构特性易与水分子相互作用,使得薄膜的各项性能极易受环境条件(尤其是湿度)的影响。即便是在可控的环境下,电子束蒸发沉积薄膜的性能也会随时间而变化。该项成果提出了等离子体辅助沉积的致密全口径包覆水汽阻隔技术,覆盖多孔电子束蒸发沉积薄膜的上表面和侧面,有效地将其与水汽隔离,制备出了低应力、光谱和机械性能长期稳定的电子束蒸发沉积薄膜。同时,该水汽阻隔技术显著提升了电子束蒸发沉积薄膜的耐划性能,且提供了一种离线获得无水吸附时薄膜应力的方法。该项成果为提升电子束沉积薄膜的光谱和面形稳定性提供了途径,有助于解决高功率激光应用中电子束沉积薄膜随时间和环境变化性能不稳定问题。相关工作得到了国家自然科学基金、中科院青促会基金、中科院先导专项(B类)等支持。(薄膜光学实验室供稿)原文链接图1 等离子体辅助沉积的致密全口径包覆水汽阻隔技术示意图图2 有、无全口径水汽阻隔膜的多层膜性能对比(a)峰值反射率处波长随时效时间变化(b)应力随时效时间变化
  • 速普仪器取得光电版薄膜应力仪国产化突破
    近日,深圳市速普仪器有限公司在西安交通大学创新港校区顺利交付光电版薄膜应力测量仪FST2000。该项目系速普仪器今年继安徽某OLED显示屏公司和宁波大学两套已交付后的第三套FST2000,另外还有三套待交付及若干套即将执行采购。成功实现业界主流光电版薄膜应力仪的国产化替代。 薄膜应力作为半导体制程、MEMS微纳加工、光电薄膜镀膜过程中性能测试的必检项,其测试的精度、重复性、效率等因素为业界所重点关注。对应产品目前业界有两种主流技术流派:1)以美国FSM、KLA、TOHO为代表的双激光波长扫描技术(线扫模式),尽管是上世纪90年代技术,但由于其简单高效,适合常规Fab制程中进行快速QC,至今仍广泛应用于相关工厂。2)以美国kSA为代表的MOS激光点阵技术(2000年代技术,曾获业界R&D100大奖),抗环境振动干扰,精于局部区域内应力测量,这在研究局部薄膜应力均匀分布具有特定意义。做一个比喻,丘陵地貌,尽管整体平均地面是平整的,但是局部是起伏的。因此,第一种路线线扫模式主要测量晶圆薄膜整体平均应力,监控工序工艺的重复性有意义。但在监控或精细分析局部薄膜应力,第二种激光点阵技术路线具有特殊优势,比如在MEMS压电薄膜的应力和缺陷监控。作为国内同类产品的唯一供货商,速普仪器创造性的提出同时兼容测试效率和细节精度的方案,即激光点阵Mapping面扫模式(适合分析局部应力分布)和L-D线扫模式(适合快速QC质检)。并采用具有自主知识产权(CN201911338140.9)的新型光路设计(更简单可靠)。FST2000薄膜应力仪采用经典的激光曲率法,利用5×5激光点阵对样品表面进行扫描测量,自动获取样品表面曲率半径数值,并自动代入内置Stoney公式获取薄膜应力数值。FST2000薄膜应力测试范围:5MPa-5GPa;曲率半径/薄膜应力重复精度:<1%(曲率半径<20m),<3%(曲率半径<100m);扫描步长:Min. 0.1mm;扫描数据点:Max. 1万点;可视化2D/3D显示。另外,针对不平整表面样品,本仪器具有对减功能模式,即镀膜前后数据点阵根据坐标点逐点对减获得真实薄膜曲率半径和应力分布,通过数据处理校正样品原始表面不平整的影响。同时,本仪器还具有直观且简单的操作界面。本地化技术团队能够提供便捷的售后服务。 深圳市速普仪器有限公司简介:

薄膜激光位量仪相关的方案

薄膜激光位量仪相关的资料

薄膜激光位量仪相关的论坛

  • 拉曼仪与薄膜

    请问用激光拉曼仪能测量薄膜的厚度、折射率及应力吗?它能对薄膜进行那些方面的测量呢?

薄膜激光位量仪相关的耗材

  • 显微薄膜测量仪配件
    显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统,可以结合显微镜测量薄膜的吸收率,透过率,反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量,测量点处的薄膜厚度,薄膜光学常量(n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是:光栅光谱仪(200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜(可选)。其中目镜适配器包含镜头,可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果(20X物镜)薄膜厚度测试仪配件软件 这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制,光谱测量和薄膜测量功能的软件,具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率,透过率,反射率和荧光光谱,并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置,所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数,如signal integration也能测量出来。对于反射率测量,该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度(《10nm到100微米), 光学常量(n & k)。 薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚: 10nm-150微米; 波长范围:200-1100nm 精度:0.5% 分辨率:0.02nm 光源:使用显微镜光源 光斑大小:由显微镜物镜决定 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口; 尺寸:120x120x120mm 重量:1.2kg 薄膜厚度测试仪配件应用 测量薄膜吸收率,透过率 测量化学薄膜和生物薄膜测量 光电子薄膜结构测量 半导体制造 聚合物测量 在线测量 光学镀膜测量
  • 薄膜溶解测量仪配件
    薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量(n, k)的变化,是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量,孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品,使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部,距离玻璃窗口非常接近,使用白光反射光谱技术(WLRS),实时测量薄膜厚度和折射率,并通过专业软件记录下这些数据。另外,根据需要,我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer,提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具,以固定小尺寸的硅样品或3' ' ,4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同,如溶解速度的不同,它能够以实时或离线的方式测量,反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程,而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量,薄膜溶解测厚仪需要光滑,具有反射性的衬底,对于光学常数测量,平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的,衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数:例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量,已经成功应用于测量反射衬底(Si晶圆)上各种光滑,透明或轻度吸收薄膜的溶解过程,可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜,聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚: 5nm-150微米;波长范围:200-1100nm 精度:0.5% 分辨率:0.02nm 测量点光斑大小:0.5mm可测样品大小:10-100mm计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:360x400x180mm重量:15kg 电力要求:110/230VAC薄膜溶解测量仪应用:聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量,传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量 能够以实时或离线的方式测量,反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。
  • 硅片厚度测量仪配件
    硅片TTV厚度测试仪配件是采用红外干涉技术的测量仪,能够精确给出衬底厚度和厚度变化 (TTV),也能实时给出超薄晶圆的厚度(掩膜过程中的晶圆),非常适合晶圆的研磨、蚀刻、沉淀等应用。 硅片厚度测量仪配件采用的这种红外干涉技术具有独特优势,诸 多材料例如,Si, GaAs, InP, SiC, 玻璃,石英以及其他聚合物在红外光束下都是透明的,非常容易测量,标准的测量空间分辨率可达50微米,更小的测量点也可以做到。硅片厚度测量仪配件采用非接触式测量方法,对晶圆的厚度和表面形貌进行测量,可广泛用于:MEMS, 晶圆,电子器件,膜厚,激光打标雕刻等工序或器件的测量,专业为掩膜,划线的晶圆,粘到蓝宝石或玻璃衬底上的晶圆等各种晶圆的厚度测量而设计,同时,硅片厚度测试仪还适合50-300mm 直径的晶圆的表面形貌测量。硅片厚度测试仪配件具有探针系统配件,使用该探针系统后,硅片TTV厚度测试仪可以高精度地测量图案化晶圆,带保护膜的晶圆, 键合晶圆和带凸点晶圆(植球晶圆),wafers with patterns, wafer tapes,wafer bump or bonded wafers 。 硅片TTV厚度测试仪配件直接而精确地测量晶圆衬底厚度和厚度变化TTV,同时该硅片厚度测量仪能够测量晶圆薄膜厚度,硅膜厚度(membrane thickness) 和凸点厚度(wafer pump height).,沟槽深度 (trench depth)。
Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ,All Rights Reserved版权所有,未经书面授权,页面内容不得以任何形式进行复制