电子束处理

品牌： GATAN名称型号：Gatan SmartEMIC 电子束感应电流测量系统制造商： GATAN公司经销商：欧波同有限公司 产品综合介绍： 产品功能介绍EBIC分析系统，可以实时软件控制全自动采集电子束感生电流（EBIC）信号，获得EBIC图像信息，还可以获得IV曲线信息，最终可以测试PN结位置，宽度，少子扩散长度，材料或器件的失效点定位，广泛应用于电子半导体领域。品牌介绍美国GATAN公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。GATAN公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商，其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学，能源科学等领域， 客户范围涵盖全球的科研院所，高校，各类检测机构及大型工业企业实验室，并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍 欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商，是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业，总部位于香港，分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、GATAN扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴，公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念，与蔡司，GATAN品牌强强联合，正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。产品系统特点：高性能、地噪声EBIC系统，进行定量EBIC测量。界面友好的智能分析软件运行于DigitalMicrograph软件平台。用于SEM的SmartEBIC 系统包括：?计算机控制的、充电电池供电的EBIC放大器?高级EBIC样品座(ASH)，并配有可调节的钨探针以进行台式接触。配以适当的Gatan适配器还可以通过空气锁来装载试样*? 与SEM样品台接口?链接插座及4个BNC型的电缆链接，低噪声这空馈通，适于EBIC和电子束流的测量?具有Fireware技术的DigiScan II数字电子束控制系统。它包括两个模拟输入，可同时采集摄影质量的图像，并可灵活控制像素强度、每点驻留时间、扫描旋转等。对于某些SEM，它还可以通过软件通讯SEM的操作参数。?配有先进的SmartEBIC应用插件的Digital Micrography软件，以进行定量测量、线性轮廓的实时和后处理分析 产品主要技术参数： SmartEBIC可以对EBIC信号进行自动控制采集和定量分析: 扫描控制系统: 1、1-, 2- or 4-比特数据采集提供了超大的动态范围 2、从 16 x 1 至 8000 x 8000 像素扫描分辨率 3、电子束停留时间，在0.5毫秒/像素到300毫秒/像素之间可调4、自动调节图像显示大小，使得EBIC实验过程变得更方便*5、配置Digi-Scan控制器，实时软件控制全自动采集，可以在EBIC信号的采集时就对信号进行定量分析，无需附加的后处理，*6、不仅获得EBIC图像信息，还可以获得IV曲线信息。噪音控制: 1. 特别设计的EBIC附属样品台2. 同轴绕线方式3. 可重复使用的铅酸电池 (15小时续航时间)4. 可以改变放大器的增益，从而最优化数据采集的信噪比和带宽5. 两种可选的一阶RC滤波器 ，低通或高通滤波6. 低漂移放大模式7. 在与PC通讯的时间以外，系统的微处理器会自动切换到睡眠状态8. 丰富的图像处理工具。包含锐化工具、平滑工具和傅立叶变换工具等。 9. 可以适配与Lock-in技术（本系统并不提供，这样的配置系统将不会对EBIC信号定量分析）追踪:通过软件实现。在12bit（1.22mV）采集分辨率模时为+/-5V。自动化:即使在放大器参数设定欠佳的条件下，系统也能自动优化图像的显示大小，从而提供更方便的图像浏览可以对放大器的偏移/增益进行自动设置软件:流程式一维扩散长度测量广泛的面扫/线扫描分析工具，包括数学分析工具，滤波应用等广泛的图像显示方案选项，包括二次电子图像与EBIC图像的叠加编程语言可助您为自己的实验编写定制化软件 产品主要应用领域： 测试PN结位置，宽度，少子扩散长度金属材料材料或器件的失效点定位测试半导体材料的位错密度IV特性测试应用实例：应用一：测试PN结位置，宽度，少子扩散长度应用二：材料或器件的失效点定位

仪器简介：全球专业的沉积设备制造商，为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案：电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等；电子束蒸发系统：1.膜电子束蒸发系统E -Beam Evaporation System2.高真空电子束蒸发系统High Vacuum E -Beam Evaporation System3.超高真空电子束蒸发系统Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System4.离子辅助蒸发系统Ion Beam Assisted Evaporation System5.离子电镀系统Ion Plating System6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System7.在线电子束蒸发系统In-line E -Beam Evaporation System技术参数：1.电子束源&电源 单个或者可自由切换换电子束源： --蒸发室数量 1 ~ 12(标配: 4, 6) --坩埚容量：7 ~ 40 cc (最大可达200 cc) --标准：25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket) --最大：200 cc (156cc for UHV) 可用于长时间的沉积 --偏转角度：180o, 270o --输出功率：6, 10, 15, 20 kW --支持两个或者三个电子束源在一个系统上 --可连续或者同时沉积两种或三种材料 --高速率沉积 2.薄膜沉积控制： IC-5 ( or XTC, XTM) 和计算机控制 --沉积过程参数可控 --石英晶体振荡传感器 --光学检测系统用于光学多层薄膜沉积：测量波长范围350-2000 nm，分辨率1 nm --薄膜厚度检测和处理过程可通过计算机程序控制 --薄膜厚度检测和沉积速率可通过计算机程序控制 --支持大面积沉积 --支持在线电子束蒸发沉积 --基底尺寸：20~100英寸 --薄膜均匀性 ±1.0 to 5.0 % 3.真空腔体： --圆柱形腔体 --直径：φ500 ~ 1,500 mm --高度：800 ~ 1500 mm --方形腔体 --根据客户的需求定制 4.真空泵和测量装置： --低真空：干泵和convectron真空规 --高真空：涡轮分子泵，低温泵和离子规 --超高真空：双级涡轮分子泵，离子泵和离子规 5.控制系统PLC和 触摸屏计算机： --硬件: PLC, 触摸屏计算机 --包括模拟和数字输入/输出卡 --显示器: LCD --自动和手动程序控制 --程序控制：加载，编辑和保存 --程序激活控制： --泵抽真空，蒸发沉积，加热， 旋转等 --膜厚度检测和控制多层薄膜沉积 --系统状态，数据加载等 --问题解答和联动状态扩展功能：1、质量流量控制器：反应和等离子体辅助惰性气体控制 2、离子源和控制器：等离子体辅助沉积 3、射频电源：基底预先处理 4、温度控制器：基底加热 5、热蒸发器：1 or 2 boat 6、蒸镀源cell：1 or 2 for doping 7、冷却器：系统冷却

电子束束闸用于开关扫描电镜电子束（打开和关闭电子束），这种功能主要需要用于电子束光刻，有时EDX、CL或EBIC也需要使用。许多SEM都有一个内置的电子束开关，通过用扫描线圈使电子束关闭。虽然这种方法适用于某些应用，但它通常在数毫秒内完成开关，如果需要更快的关闭速度，应该安装一个单独的电场型束闸。DEBEN PCD型电子束闸适配与场发射扫描、钨灯丝扫描和六硼化镧扫描电镜，为其提供高速关闭电镜束，脉冲开关电子束以及其他形式的电子束控制。n 电子束光刻n 阴极荧光n EBIC/电压对比n EDXn 电子声学显微镜 n 集成法拉第杯n 50nS开关频率n 电动插入n 5V TTL输入n RS-232遥控 n 1MHz最大频率n 可用于JEOL和Hitachi SEMs束闸安装与电镜镜筒PCD端口（物镜光栏对面）30kV电压下具有50ns的开关速度。集成一个法拉第杯在束闸前端，具备测量电子束束流强度的能力。如果您需要一个更加精确的电流数据，束闸的尾部具有一个BNC接口，允许外接皮安表读取。束闸极板由钴金涂层的磷青铜制成，以确保在插入板时不影响扫描电镜的正常运行。极板可以伸到电子束光路中使用，在不使用时缩回。极板的长度和间距是一个开关效率最佳的设计，可适用的电镜电压范围1kV~30kV。