表面分析技术

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表面分析技术相关的资讯

  • 材料表面与界面分析技术及应用
    表面和界面的性质在材料制备、性能及应用等方面都起着重要作用,是材料科学领域研究的重要课题。2023年12月18-21日,由仪器信息网主办的第五届材料表征与分析检测技术网络会议将于线上召开,会议聚焦成分分析、微区结构与形貌分析、表面和界面分析、物相及热性能分析等内容,设置六个专场,旨在帮助广大科研工作者了解前沿表征与分析检测技术,解决材料表征与分析检测难题,开展表征与检测相关工作。其中,在表面和界面分析专场,北京师范大学教授级高工吴正龙、国家纳米科学中心研究员陈岚、暨南大学 实验中心主任/教授谢伟广、上海交通大学分析测试中心中级工程师张南南、岛津企业管理(中国)有限公司应用工程师吴金齐等多位嘉宾将为大家带来精彩报告。部分报告内容预告如下(按报告时间排序):北京师范大学教授级高工 吴正龙《X射线光电子能谱(XPS)定量分析》点击报名听会吴正龙,在北京师范大学分析测试中心长期从事电子能谱、荧光和拉曼光谱分析测试、教学及实验室管理工作。熟悉表面分析和光谱分析技术,积累了丰富实验测试经验。主要从事薄膜材料、稀土发光材料研究及石墨烯材料表征技术、表面增强拉曼光谱技术的研究,在国内外期刊发标多篇学术论文。现任全国表面化学析技术委员会副主任委员,主持和参与多项电子能谱分析方法标准。近年来,在多场国内电子能谱应用技术交流培训会上担任主讲人。报告摘要:X射线光电子能谱(XPS)作为最常用的表面分析技术,表面探测灵敏度高,可以检测表面化学态物种的表面平均含量、表面偏析;分析薄膜组成结构;评估表面覆盖、表面分散、表面损伤、表面吸附污染等。本报告在简要介绍XPS表面定量分析原理基础上,通过实际工作中的一些实例,探讨XPS定量结果解释,帮助大家正确理解XPS定量分析结果,更好地利用XPS技术分析表面。岛津企业管理(中国)有限公司应用工程师 吴金齐《岛津XPS技术在材料表面分析中的应用》点击报名听会吴金齐,岛津分析中心应用工程师,博士毕业于中山大学物理化学专业,博士毕业后加入岛津公司,主要负责XPS的应用开发、技术支持、合作研究等工作,使用XPS技术开展不同行业材料表征相关研究,具有多年XPS仪器使用经验,熟悉XPS数据处理及解析,合作发表多篇SCI论文。报告摘要:介绍相关表面分析技术及XPS在材料表面分析中的应用。国家纳米科学中心研究员 陈岚《纳米气泡气液界面的检测》点击报名听会陈岚,爱尔兰国立科克大学理学博士,剑桥大学居里学者,2014年至今,先后任国家纳米科学中心副研究员、研究员及博士研究生(合作)导师;主要从事纳米界面微观检测及纳米界面光电化学性能调控方面的研究;ISO/TC281注册专家,全国微细气泡技术标准化技术委员会(SAC/TC584)委员,中国颗粒学会微纳气泡、气溶胶专委会委员,Frontiers in Materials及Catalysts客座编辑,科技部在库专家,北京市科委项目评审专家;主持科技部发展中国家杰出青年科学家来华工作计划1项,参与国家重点研发计划“纳米科技”重点专项、“纳米前沿”重点专项各1项;共发表论文近60篇,授权专利9项,编制国家标准10部。报告摘要:体相纳米气泡具有超常的稳定性及超高的内压,高内压的纳米气泡在溶液中稳定存在的机制一直众说纷纭。因此,研究纳米气泡边界层对于解释纳米气泡的稳定性具有重要的意义。由于纳米气泡气液界面的特点,检测体相纳米气泡边界层十分困难,常规的方法和技术手段很难实现。在本工作中,首次采用低场核磁共振技术(LF-NMR)对体相纳米气泡边界层中水分子的弛豫规律进行了系统研究,提出了纳米气泡边界层测量的数学模型,并成功地测得了不同尺寸纳米气泡的边界层厚度。研究发现,纳米气泡粒径越小,边界层所占比例越高,因而也越可以对更高内压的气核进行有效保护,纳米气泡的稳定性也可以据此进行定量解释。暨南大学 实验中心主任/教授谢伟广《范德华异质结光电探测及光电存储器件》点击报名听会谢伟广,暨南大学物理与光电工程学院教授,博导。2007年博士毕业于中山大学凝聚态物理专业,导师为许宁生院士;研究方向是微纳尺度多场耦合行为及应用,半导体光电转换过程、器件及集成;在Advanced Materials, ACS Nano等期刊发表SCI论文80多篇,代表性成果包括:实现了多种二维半导体氧化物的CVD制备,首次发现了极性二维氧化物长波红外低损耗双曲声子极化激元现象;发展了钙钛矿薄膜的真空气相制备方法,实现了高效气相太阳能电池及光电探测阵列的制备。研究团队发展的多项方法已被国内外同行广泛采纳,并在Nature、Sciecne等著名期刊正面评价。主持国家基金面上项目、重点项目子课题、广东省自然科学基金杰出青年基金项目等多项项目;于2022年(排名第一)获得中国分析测试协会科学技术(CAIA)奖一等奖。报告摘要:二维钙钛矿(2DPVK)具有独特的晶体结构和突出的光电特性,设计2DPVK与其他二维材料的范德华异质结,可以实现具有优异性能的各类光电器件。本报告主要介绍下面两种异质结器件:(1)光电探测器:制备了2DPVK/MoS2范德华异质结器件,由于II型能带排列中层间电荷转移所诱导的亚带隙光吸收,器件在近红外区域表现出了单一材料均不具备的光电响应。在此基础上引入石墨烯(Gr)夹层,借助Gr的有效宽光谱吸收和异质结中光生载流子的快速分离和输运,2DPVK/Gr/MoS2器件的近红外探测性能进一步得到了大幅提升。(2)光电存储器:开发了基于MoS2/h-BN/2DPVK浮栅型光电存储器,其中2DVPK由于其高光吸收系数,能同时作为光电活性层与电荷存储层,器件展现了独特的光诱导多位存储效应以及可调谐的正/负光电导模式。上海交通大学分析测试中心中级工程师 张南南《紫外光电子能谱(UPS)样品制备、数据处理及应用分享》点击报名听会张南南,博士,2019年毕业于吉林大学无机化学系,同年入职上海交通大学分析测试中心,研究方向为材料的表界面研究,主要负责表面化学分析方向的X射线光电子能谱仪(XPS)及飞行时间二次离子质谱(ToF-SIMS)方面的测试工作。获得上海交通大学决策咨询课题资助,授权一项发明专利,并在 J. Colloid Interf. Sci., Catal. Commun.等期刊发表了相关学术论文。报告摘要:紫外光电子能谱(UPS),能够在高能量分辨率水平上探测价层电子能级的亚结构和分子振动能级的精细结构,广泛应用在表/界面的电子结构表征方面。本报告主要介绍UPS原理、样品制备、数据处理以及在钙钛矿太阳能电池、有机半导体、催化材料等领域的应用。参会指南1、进入第五届材料表征与分析检测技术网络会议官网(https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/icmc2023/)进行报名。扫描下方二维码,进入会议官网报名2、会议召开前统一报名审核,审核通过后将以短信形式向报名手机号发送在线听会链接。3、本次会议不收取任何注册或报名费用。4、会议联系人:高老师(电话:010-51654077-8285 邮箱:gaolj@instrument.com.cn)5、赞助联系人:周老师(电话:010-51654077-8120 邮箱:zhouhh@instrument.com.cn)
  • 最全表面分析技术盛会!首届表面分析技术与应用主题网络研讨会全日程公布!
    表面分析技术即利用电子、光子、离子、原子等与固体表面的相互作用,测量从表面散射或发射的电子、光子、离子、原子、分子的能谱、光谱、质谱、空间分布或衍射图像,得到表面成分、表面结构、表面电子态及表面物理化学过程等信息的各种技术。表面分析技术广泛应用于材料表征等领域,是目前最前沿的分析技术之一。仪器信息网将于2022年9月7-9日举办首届表面分析技术与应用主题网络研讨会,旨在促进表面分析技术与应用领域的发展,利用互联网技术为国内的广大科研及相关工作者提供一个突破时间地域限制的免费学习平台,让大家足不出户便能聆听到表面分析技术专家的精彩报告,节省时间和资金成本。首届表面分析技术与应用主题网络研讨会共设置了5个主题会场 ,分别是:电子能谱(XPS/AES/UPS)技术与应用、扫描探针显微镜(AFM/STM)技术与应用、电子探针/原子探针技术与应用、二次离子质谱(SIMS)技术与应用、拉曼光谱及其他表面分析技术与应用。会议页面(点击快速免费报名参会):https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/icsa2022/专场设置专场主题专场时间专场一:电子能谱(XPS/AES/UPS)技术与应用9月7日上午专场二:扫描探针显微镜(AFM/STM)技术与应用9月7日下午专场三:电子探针/原子探针技术与应用9月8日上午专场四:二次离子质谱(SIMS)技术与应用9月8日下午专场五:拉曼光谱及其他表面分析技术与应用9月9日上午会议全日程报告时间报告题目报告人工作单位职务/职称专场一:电子能谱(XPS/AES/UPS)技术与应用(09月07日上午)09:00--09:30原位电子能谱技术应用进展姚文清清华大学/国家电子能谱中心研究员/副主任09:30--10:00X射线光电子能谱法在有机高分子材料研究中的应用程斌北京化工大学研究员/副主任10:00--10:30光电子能谱(XPS)深度剖析吴正龙北京师范大学教授级高工10:30--11:00低能离子散射谱(LEISS)在催化剂表界面研究中的应用陈明树厦门大学教授11:00--11:30XPS在催化材料研究中的应用邱丽美石油化工科学研究院高级工程师11:30--12:00多功能光电子能谱仪在表面分析中的应用周楷重庆大学分析测试中心高级工程师12:00--12:30光电子能谱在固态锂离子电池研究中应用谢方艳中山大学高级实验师专场二:扫描探针显微镜(AFM/STM)技术与应用(09月07日下午)14:00--14:30Coherence enhancement of solid-state qubits by scanning probe microscopy江颖北京大学教授14:30--15:00原子力显微镜样品制备方法介绍潘涛Park原子力显微镜高级工程师15:00--15:30Local Interfacial Engineering of 2D Atomic Crystals by Advanced Atomic Force Microscopy程志海中国人民大学教授15:30--16:00基于STM的亚纳米分辨单分子光谱成像董振超中国科学技术大学教授16:00--16:30新型大能隙拓扑绝缘体α‐Bi4Br4的拓扑边缘态肖文德北京理工大学研究员16:30--17:00STM原理及在有机分子自组装上的应用曾庆祷国家纳米科学中心研究员17:00--17:30Research progress of atomically manipulating structural and electronic properties of low-dimensional structures陈辉中科院物理研究所副研究员专场三:电子探针/原子探针技术与应用(09月08日上午)09:00--09:30电子探针分析技术及其标准化研究陈振宇中国地质科学院矿产资源研究所研究室主任/研究员09:30--10:00电子探针市场分析和我们的应对举措胡晋生捷欧路(北京)科贸有限公司表面分析产品经理/部长10:00--10:30超轻金属元素Be的原位定量分析及其应用饶灿浙江大学教授10:30--11:00岛津epma技术特点及其应用廖鑫岛津企业管理(中国)有限公司EPMA产品专员11:00--11:30电子探针微区化学状态分析及其应用王道岭中国科学院金属研究所高级工程师11:30--12:00原子探针层析技术最新进展及应用李慧上海大学副研究员专场四:二次离子质谱(SIMS)技术与应用(09月08日下午)14:00--14:30飞行时间二次离子质谱分析技术及其应用李展平清华大学分析中心高级工程师14:30--15:00飞行时间二次离子质谱及其应用汪福意中国科学院化学研究所研究员15:00--15:30AES/XPS/SIMS/GD-OES(MS)深度剖析定量分析王江涌汕头大学物理系教授15:30--16:00用于SIMS的高分辨质谱技术进展及展望李海洋中国科学院大连化学物理研究所研究员专场五:拉曼光谱及其他表面分析技术与应用(09月09日上午)09:00--09:30电化学表面增强拉曼光谱及等离激元介导光化学反应研究吴德印厦门大学教授09:30--10:00国产显微共聚焦拉曼光谱成像仪刘鸿飞奥普天成(厦门)光电有限公司董事长/高级工程师10:00--10:30表面增强拉曼光谱在纳米颗粒表面化学反应原位检测中的应用谢微南开大学研究员10:30--11:00基于消逝场界面耦合的表面增强拉曼光谱新技术徐抒平吉林大学超分子结构与材料国家重点实验室教授11:00--11:30双光束原位红外光谱表征技术研究进展刘家旭大连理工大学副教授会议报名链接:https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/icsa2022/或扫描上方二维码报名会议联系管编辑:17862992005,guancg@instrument.com.cn会前访谈:仪器信息网资深编辑将于9月6日对话高德英特有限公司中国区执行总监叶上远,邀请其分享对于表面分析技术和产业的经验和看法。访谈直播平台为仪器信息网视频号,扫描下方图片二维码报名预约。
  • 【精彩视频回放】聚焦新材料研究 多种表面分析技术各显其能——第三届表面分析技术应用论坛成功召开
    p   表面科学是上世纪60年代后期发展起来的一门学科,目前已经成为国际上最为活跃的学科之一。材料表面的成分、结构、化学状态等与内部有明显的不同,而表面特性对材料的物理、化学等性能影响很大。随着我国新材料领域研究的深入,表面分析技术也日益发挥其重要的作用。当前,全球已经开发了数十种常用的表面分析技术,如X射线光电子能谱(XPS)、二次离子质谱(SIMS)、扫描探针显微镜(SPM)、辉光放电光谱(GDS)、俄歇电子能谱(AES)等。 /p p   为了积极推动表面分析科学与应用技术的快速发展,加强同行之间交流合作,展示表面分析技术在新材料研究中的进展,5月20日,仪器信息网联手国家大型科学仪器中心-北京电子能谱中心、中国分析测试协会高校分析测试分会举办“第三届表面分析技术应用论坛——表面分析技术在新材料研究中的应用”网络主题研讨会,七位专家就相关的研究领域分享了高质量的报告。 /p p   此次应用研讨会内容立足表面分析技术在新材料研究中的应用,既有某一课题的科研进展综述,也有某一方向的研究成果分享、最新标准解读,以及相关仪器使用介绍等。组织方希望通过此次表面分析技术应用论坛的平台,让与会者深入交流,共同提升理论与技术水平, 促进表面分析科学研究队伍的壮大。本次会议由国家大型科学仪器中心-北京电子能谱中心副主任、清华大学分析表面分析室主任、高级工程师姚文清主持。 /p p style=" text-align: center" img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/201905/uepic/85014051-a8d5-4da7-874c-4853820e8013.jpg" title=" 姚文清.jpg" alt=" 姚文清.jpg" / /p p style=" text-align: center " strong 国家大型科学仪器中心-北京电子能谱中心副主任、清华大学分析表面分析室主任、高级工程师姚文清 /strong /p p strong /strong /p p style=" text-align: center" img style=" max-width:100% max-height:100% " src=" https://img1.17img.cn/17img/images/201905/uepic/80a5fb64-a7ff-4e04-a2d4-f343cc70cb41.jpg" title=" 报告嘉宾.png" alt=" 报告嘉宾.png" / /p p   清华大学张强教授主要从事能源材料研究,尤其是在金属锂、锂硫电池和电催化方面开展了一系列的工作。本次报告中,他从能源存储与转化的新机遇讲起,针对工作金属锂界面上的SEI(界面层),以及如何获得稳定的SEI,如何诱导金属锂均匀沉积等多个话题给大家介绍了其所开展的研究工作。报告题目: strong 《The Working Surface of Li Metal Anode in Safe Batteries》。 /strong /p p   计量、标准、合格评定(检测和认证认可)对人类社会进步和工业发展发挥着不可或缺的基础性作用,2006年联合国与国际标准化组织(ISO)正式明确“计量、标准化、合格评定”为国家质量基础(National Quality Infrastructure,简称 NQI)的三大构成要素。石墨烯由于其独特的性能使其成为代表性的新材料而受到各国政府的产业支持。中国计量科学研究院任玲玲研究员在简要回顾计量、标准的基础上,重点介绍针对急需有序规范发展的石墨烯粉体材料开展的NQI技术研究及成果实施。 strong 报告题目:《石墨烯粉体材料计量、标准及合格评定全链条实施》。 /strong /p p   X射线光电子能谱(XPS)是表面分析领域中的一种崭新的分析技术,通过测量固体表面约10个纳米层左右被激发出光电子的动能,进而对固体样品表面的元素成分进行定性、定量或半定量及价态分析。XPS作为一种分析各种材料表面的重要工具,目前广泛应用于与材料相关的基础科学和应用科学领域,包括各种催化材料、纳米材料、高分子材料、薄膜材料、新型光电材料、金属以及半导体等表面性能研究。岛津宋玉婷博士介绍了XPS的技术特点及应用案例。 a href=" https://www.instrument.com.cn/webinar/Video/play/105159/" target=" _blank" span style=" color: rgb(255, 0, 0) " strong 报告视频精彩回放:《X射线光电子能谱最新应用进展》 /strong /span /a /p p   以氮化镓和砷化镓为代表的III-V族化合物,都是直接带隙半导体材料,通过掺杂或能带设计可以调控光电等物理特性,在光电领域具有独特优势。表面分析技术常被用于研究半导体材料及器件性能,分析表面形貌、组分、化学态、结构及能带等信息。本次报告,中国科学院半导体研究所赵丽霞研究员介绍了几个利用表面分析技术在研究III-V半导体光电材料和器件的典型工作。 strong 报告题目:《表面分析技术在III-V族半导体光电材料器件中的应用》 /strong 。 /p p   扫描隧道显微镜是当前表面物理和化学研究的重要实验设备。扫描隧道显微镜的基本原理是基于量子力学的隧穿效应,隧穿电流与隧穿结的高度灵敏性使扫描隧道显微镜具有原子级的空间分辨能力。扫描隧道显微镜的主要功能包括表面形貌成像、表面电子态密度测量、及原子分子操纵。中科院物理研究所陆兴华研究员的报告通过几个典型应用来展示扫描隧道显微镜的这些基本功能,并对扫描隧道显微镜技术的未来发展方向作了简单的介绍。 a href=" https://www.instrument.com.cn/webinar/Video/play/105162" target=" _blank" strong span style=" color: rgb(255, 0, 0) " 报告视频精彩回放:《扫描隧道显微镜技术》。 /span /strong /a /p p   飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)能以极高的灵敏度(ppm~ppb)探测到包括H在内的所有元素及其化合物信息,被誉为是一种普适的分析技术。清华大学分析中心李展平博士的报告介绍了TOF-SIMS的基本原理、技术特点,以及它在环境等各种领域的应用。 a href=" https://www.instrument.com.cn/webinar/Video/play/105160" target=" _blank" span style=" color: rgb(255, 0, 0) " strong 报告视频精彩回放:《飞行时间二次离子质谱分析技术及其应用》。 /strong /span /a /p p   三氧化钼是一种用途广泛的材料,在催化、抗菌等领域内有独特的应用。MoO sub 3 /sub @SiO sub 2 /sub 是常见三氧化钼的使用形态,几十年来已经用不少方法进行过很多研究。北京化工大学程斌分享了其实验室对MoO3@SiO2的最近研究方法与结果。 a href=" https://www.instrument.com.cn/webinar/Video/play/105161/" target=" _blank" span style=" color: rgb(255, 0, 0) " strong 报告视频精彩回放:《氧化钼在MoO3@SiO2上分布的研究》 /strong /span /a /p p   虽然会议已经结束,但是精彩仍在继续,仪器信息网已经将部分报告老师的现场讲座视频上传到仪器信息网网络讲堂,想要重复学习或者没机会参与会议直播的网友,可以点击 strong 报告视频精彩回放 /strong 进行学习与分享。 /p

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  • 【分享】表面分析技术

    【分享】表面分析技术

    表面分析技术 surface analysis techniques   利用电子、光子、离子、原子、强电场、热能等与固体表面的相互作用,测量从表面散射或发射的电子、光子、离子、原子、分子的能谱、光谱、质谱、空间分布或衍射图像,得到表面成分、表面结构、表面电子态及表面物理化学过程等信息的各种技术,统称为表面分析技术。在20世纪60年代超高真空和高分辨高灵敏电子测量技术建立和发展的基础上,已开发了数十种表面分析技术,其中主要有场致发射显微技术、电子能谱、电子衍射、离子质谱、离子和原子散射以及各种脱附谱等类。70年代后期建立的同步辐射装置,能提供能量从红外到硬X 射线区域内连续可调的偏振度高和单色性好的强辐射源,又大大增强了光(致)发射电子能谱用于研究固体表面电子态的能力,开发了光电子衍射和表面X射线吸收边精细结构。此外,电子顺磁共振、红外反射、增强喇曼散射、穆斯堡尔谱学、非弹性电子隧道谱、椭圆偏振等,也用于某些表面分析场合,一些主要的表面分析技术的物理过程和特点如下表所示。 [img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2006/11/200611261852_33688_1634962_3.jpg[/img]各种技术的表面灵敏度并不相同,单一技术只得到表面某一方面的信息。为了对固体表面进行较全面的分析,常采用同时配置几种表面分析技术的多功能装置。目前,各种表面分析技术的定量化尚待逐步完善。

  • XPS技术在表面分析中的应用

    表面,在我们的日常生活和科研工作中,随处可见。表面的信息层很薄,≤5nm,而且表面特殊的组成及原子排列也影响着材料的整体性能,因此对材料表面的研究变得尤为重要。X射线光电子能谱(XPS)技术作为典型的表面分析

  • 表面成分分析

    表面成分分析表面成分分析是指对表面纳米及微米厚度范围内的成分进行分析的技术,例如对电镀层、电化学抛光层,钝化层、渗氮层、渗碳层、喷涂层等各种表面处理层进行成分分析。根据表面处理层厚度和产品实际情况选用不同的测试方法:1. SEM+EDS——表面处理层厚度大于1微米,通常选用EDS来进行成分测试,结合SEM可以对微区成分进行测定。2. 金相切片+EDS——当要测试的位置不在表面时,通常需要用金相切片方法将测试位置暴露在截面上,再用EDS进行成分分析。3. XPS——当表面处理层厚度小于1微米时,通常采用XPS进行表面成分分析,同时可以给出化学态信息,对表面物质组成进行全面分析。结合氩离子溅射,XPS还能给出元素沿样品深度方向的信息,可以对多层膜进行成分剖析。4. AES——当表面处理层只有几个纳米厚度,并且测试位置为微小区域时,通常用AES对微区进行极表面成分分析。表面成分分析常见案例:PCB板金手指成分分析,饰品镀金层成分分析,电化学抛光后表面残留物分析,未知样品成分剖析,多层膜剖析等。 太阳镜表面膜层深度剖析 从表面开始膜层结构:MgF(22nm)/TiO2(44nm)/MgF(22nm)/TiO2(44nm)/ MgF(110nm) http://bbs.instrument.com.cn/xheditor/xheditor_skin/blank.gif

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  • 赛默飞世尔科技红外/拉曼光谱 Nicolet产品,是世界上最大的傅立叶红外光谱仪(FT-IR)和拉曼光谱仪(Raman)的专业生产厂家。几十年来其以精湛的技术、卓越的产品和优质全面的服务居于世界红外及拉曼领域的前列,并在全球范围内具有最大的市场占有率。 主要产品:电子背散射衍射系统(EBSD)折光仪(折射仪)X光电子能谱仪(XPS/ESCA)激光共聚焦显微镜红外显微镜核磁共振(NMR)近红外光谱(NIR)荧光分光光度计(分子荧光)紫外、紫外分光光度计、紫外可见分光光度计、UV激光拉曼光谱(RAMAN)红外光谱(IR、傅立叶) 更多信息:请访问赛默飞世尔科技分子光谱与表面分析的展台,展位号:SH100328。或使用简易域名登陆:http://molecular.instrument.com.cn。
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  • 仪器简介:仪器名称:Zeta电位分析仪 研究对象:纤维、薄膜、粉末、粒子、固体金属或非金属片等材料。 主要用途:测量材料的表面电荷,了解材料表面上的电荷状况,研究材料表面性能。 主要应用:材料表面改性 材料表面黏附、吸附、脱附等 材料组成 材料亲水性与疏水性 材料洁净处理等 表面活性剂相互作用 SurPASS 3固体电运动分析仪/ 固体表面Zeta 电位仪帮助科研人员在化学与材料科学领域内改善和调整表面特性,设计新型、特定性质的材料,如聚合物、纺织、陶瓷、玻璃、或表面活性剂等。 通过测量宏观固体物表面的流动电流或流动电压(电势),SurPASS 3固体电运动分析仪给出了Zeta 电位这样一个重要的信息。 Zeta 电位是一种界面特性,这对于理解固体材料在很多工艺技术处理方面非常重要。Zeta 电位给出了固体表面电荷、吸附性质等的信息。 SurPASS 3 固体电运动分析仪/ 固体表面Zeta 电位仪拓展丰富了表界面分析知识。 SurPASS 3 固体电运动分析仪/ 固体表面Zeta 电位仪对不同形状和尺寸的固体及粉末材料均适用。 在表面分析中,固体表面 Zeta电位分析仪SurPASS 3基于流动电势和流动电流测量法,从而研究宏观固体表面 Zeta电位。 它可以提供有关表面电荷和相关性质的信息,并可检测表面性质中最微小的变化。 Zeta电位: 范围:所用测量原理决定没有限制再现性:+/-0.5 mV 等电点: 再现性:+/-0.1 pH 平板固体: 最小 35 mm x 15 mm,厚度20 mm, 20 mm x 10 mm,厚度2 mm, 直径为 14 mm 或 15 mm 的圆片 纤维: 最少重量 100 mg 粉末: 最小粒径 25 μm 膜和过滤材料 生物材料 半导体工业 纤维、织物和无纺布 化妆品和洗涤剂 矿物 针对各种形状的固体 各种不同的测量池适用于天然的和人造的纤维和织物、颗粒样品、粗颗粒和平板样品。 突破极限-流动奥妙 快速测量: Zeta电位测量少于2分钟 表面Zeta电位直接分析: 适用于实际样品,无需使用示踪颗粒 主要特点:测量原理 : 在电化学双电流层的模型中,电荷分布形成固定层与可移动层。滑动层将这两层彼此分离。 Zeta 电位指定为在滑动层上固体表面与液相之间电势的衰减。电解质流动的外部力平行应用于固体与液体界面导致固定层与可移动层之间相对运动与电荷分离,由此得出实验的Zeta 电位。 流动电势的大小由液相的流动压差P决定。Zeta 电位即可定义为固体表面的固定层电荷与离子移动层之间的电势,相应的流动电势系数为dU/dP, Zeta 电位表示为: 固体表面特性,粘性,介电常数,电解质电导率K 等都影响Zeta 电位的大小。得出Zeta 电位值时,需要说明电解质溶液的类型,浓度,pH值。 稀释的电解质循环流经装有样品的测量池,由此产生一个压差,其电荷在电化学双电层中相对运动产生并增加流动电压,这个流动电压/ 流动电流(可选择)由置于样品两边的电极检测。SurPASS 3可同时测量出电解质的电导率,温度及pH值。
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  • 表面分析系统 400-860-5168转1594
    仪器简介:Model 805表面分析系统 光泽仪:测量样品光泽度,不受其形状、质地、颜色的影响 测量DOI(影象清晰度或鲜映性)和桔皮 测量区域大(最多可达240,000个数据点) 可测量超高光泽度 确保样品质量和一致性 能排除所有主观性的干扰 Model 805A表面分析系统测量和分析各种形状、质地、颜色的样品表面的光泽度、DOI(影象清晰度或鲜映性)、桔皮和雾影等指数。也经常被用于评价物体的表面结构。高清晰度的影象系统能迅速提供表面测量结果的数值。技术参数:电源:115/220 V ac, 50/60 Hz, 300 W 绝对精度:± 1.0%满量程 重复性:± 1.0%满量程 测试时间:20秒 稳定所需时间:启动后10分钟(典型) 测量光路:标准 60° 测量区域:直径约2.5英寸的区域 旋转样品台:直径17.8厘米(7英寸),旋转角度从0° 到 360°,增量为1° 样品高度调整:从0到7.6厘米主要特点:805A表面分析系统提供的定量的数值在判断表面特征时排除了所有的主观性的干扰。每次测试能测多达240,000个点。样品的特殊区域也能被单独测量。 所有的光泽测量都是直接源于系统提供的一个光泽参照。 DOI测量功能为高光泽产品的映像清晰度提供了一个定量的测量。 桔皮测量功能能精确测量那些显示桔皮特征的表面的“桔皮”和“波纹度”。 805A还能测量计算出雾影指数,同时具备测量和评价有织纹的表面的一直性的功能。 Model 805A常被用于磨损和风化研究中,量化表面特性和监督产品的一致性。它提供测量数据、显示影象、柱状图、比较数据、内部校正和其他深入的信息。 Model 805A由菜单操作。测量结果可以通过简单的按一个按钮保存数秒。操作者也能分析数据、观看柱状图。 仪器由样品测试室、电脑和显示器组成。系统能自动监控和自动校正以保证精度和易于使用。
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