底片显影液是否需要检测

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底片显影液是否需要检测相关的仪器

  • 浓度计? 坚固的铝合金外壳,可现场安装。 ? 可精确测量高电导率溶液,测量范围从 0~500μ S/cm 至 0~2000ms/cm。 ? 采用电磁感应原理,避免了金属电极的缺点,不受 电极结垢和电容极化影响。能准确测量高电导率溶 液以及强腐蚀性溶液,如硫酸、盐酸、氢氧化钠等。? 检测器液接部分采用 C-PVC 材质或 PFA (Teflon) 材质,保证了良好的化学耐腐蚀性和温度耐受性。 ? 通过微电脑处理器进行温度补偿(演算)。 ? 能同时输出测量值和溶液温度值。? 可对测量值进行补偿修正。准确监测TMAH(羟化四甲铵),一种在半导体制程中光刻工艺时使用到的显影液的主要成分。重复性:± 0.003%测量范围:0-3%耐化学药品的碳极传感器特征高性能,重复性:± 0.003%大范围监测浓度:0-3% ,导电性:0-1000 mS/cm自动显示量程切换实现三种类型的监测:TMAH浓度,导电率,温度
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  • 自动转印显影机ACT-300A2紧凑型自动转印显影机。ACT-300A2S自动转印型显影机在旋转6英寸以下的基材时进行喷雾显影。它配备了两套显影液系统、一套冲洗系统和一把气刀,配方设置操作可通过触摸屏进行,可实现多达25种基质的自动显影。也可提供无自动处理的单晶片类型。主要规格。处理能力:可连续处理25张6英寸以下的圆形基材。流程:显影剂:2个系统,漂洗:1个系统,气刀:1个系统。 使用的化学品:碱性显影剂,去离子清洗水。处理能力 多达25个6英寸的圆形基片(专用盒式存储型)。过程开发者2系统(喷嘴可互换)。        1个漂洗系统 1个气刀系统使用的化学品 碱性显影剂 去离子清洗水转移机器人Tatsumo定心台,用于准确定位基片。可以注册10个步骤x50个模式的食谱。以0.1秒为增量的处理时间设置板速交流伺服电机控制的 0-3000 rpm 精度±2 转速以内设备尺寸 W1120 x D920 x 高1950毫米,zui大50 0公斤或以下控制系统8英寸触摸面板操作吸水台 白色特氟隆,真空孔吸水式罐体容量为18L,与机体分离,通过称重传感器检测残余液位。显影液控制温度20-30°C ± 3°C公用事业 3相200V/30A 1个漏电断路器内置真空泵空气0.5兆帕氮气 0.3 MPa排气管 2个排气系统(电动排气管、杯式排气管),?75 mm显影液废液 收集在聚乙烯罐中或与工厂废物相连
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  • 全封闭式桌面显影机 400-860-5168转5919
    1.产品概述全封闭式桌面显影机是一种高效、精准的实验室设备,主要用于各种材料的显影处理。其全封闭式设计能够有效防止显影液挥发和污染,确保实验环境的清洁和安全。同时,桌面型设计使得设备占地面积小,便于移动和放置,适用于各种实验室环境。2.产品特点全封闭式设计:避免显影液挥发和雾气扩散到外部,保护环境,减少对人体健康的危害。耐腐蚀材质:外壳喷塑处理,耐腐蚀、易清洗;内腔采用不锈钢材质,镜面抛光处理,光滑、耐腐蚀、易清洗。内置真空过滤器:防止液体吸入真空泵,保护设备免受损坏。可调真空压力:真空压力可调,压力值实时显示,满足不同实验需求。可调液体流量:液体流量可调,回吸可调,确保显影过程的精确控制。广泛适用性:适用于多种尺寸的wafer,从碎片到200mm(8”圆晶)均可处理。高精度控制:转速分辨率高,旋涂速度和加速度可调,工艺时间设定精确。3.应用域全封闭式桌面显影机广泛应用于高封装、MEMS(微机电系统)、LED(发光二管)等市场域。此外,它还可用于医疗卫生、化工、能源、电子等多个行业的实验室中,进行各种材料的显影处理。4.产品参数产品型号:DM200-SE品牌:LEBO/雷博产地:中国(江苏江阴)材质:外壳喷塑,内腔不锈钢尺寸:550mm (W) x 600mm (D) x 405mm (H)支持wafer尺寸:碎片至200mm(8”圆晶)转速分辨率:±1 RPM旋涂速度:20-3000rpm(空载)旋涂加速度:20-10,000rpm/sec(空载)工艺时间设定:0-3,000sec/step,时间设置精度:0.1sec
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  • 【原创】关于TEM底片的冲洗及扫描的一点体会

    最近拍照后的底片冲洗遇到了一些问题,现已弄明白,回顾了一下冲底片的流程,做个记录吧。 先说底片的预抽,我使用的是JEM-2010电镜,机器的抽真空能力还是很强的,最初的试验中按规矩底片盒一般都是预抽一晚上,大概16小时左右,放入电镜后在半小时内可以抽好真空,也许只有10几分钟,没有具体的计时过,后来用的比较少了,每次都是大批量,加之样品盒只有一个(目前又增添了一个),于是放弃了预抽,结果是2小时左右可以抽好照相系统的真空,正常使用。所以,相比较预抽的效率不如直接放入,当然,我这个是老电镜,没有考虑电镜的损耗问题。 接着说拍照前的底片放入底片盒的注意事项,刚开始做的时候没有达到完全黑暗情况下装片,室内开了一个红灯,这是经验不足的错误,后来改正,应在完全黑暗的情况下装片!至于底片的感光面反正的问题,我使用的是乐凯的黑白胶片,黑暗中手感光滑的一面是感光面,向上放置。手一定要干,感光面用潮湿的手摸是油腻的,这点体会是在一次装片中出现手潮的情况,结果装反了,不过不影响拍片,出来的效果当然会有点差别,还是正确装片的好。胶片的反面应是油腻感的,如果你手潮,感觉正相反。 装片完毕最好用黑色布袋套好,我开始就是没有套,因为底片盒并不是完全的密封很好,存在漏光的可能,尤其是拍完后的承载盒,从照相室取出的时候一定要在黑暗的情况下,套上黑布套,否则最上的一张会边缘抛光,冲的时候会黑掉。 继续。冲底片,冲底片的原则同样是尽量完全黑暗的情况下,我最初冲的时候存在误区,认为显影的时候应该开红灯,其实应该是绿灯,还养成了一个怀习惯,就是显影一定时间后拿出来放在红灯下看看有没有显影充分,这样就影响了显影的后果,结果就是底片效果偏“薄”,清晰度差(这个和定影过长的偏薄不一样),现在我冲底片的时候只开一个绿灯,很暗的,靠经验和一点点绿光来判断显影液里面的底片是否显影充分,这个是经验。显影不充分的时候很多细节出不来,过度显影会导致底片整体发黑发暗不利于后期的扫描,一张恰到好处的照片最后应该是周边的胶片透明的很彻底,光下对比明显,没有杂色,如暗白等。 显影液的配置按规范做就可以,注意水温,水尽量不要用自来水,如果用自来水需要放置一定时间后,我一般使用纯净水,处理过的,杂质颗粒比较少,显影液配置24小时后使用效果更好。显影液的使用温度为20度-25度,因为显影液需要冷藏保存,刚拿出来不要立刻使用,会影响显影的时间和效果,1:1兑水之后放置一会,或放在暖气等接近使用温度的东东上升温到20度以上。显影需适当的让底片“动起来”以均匀显影。显影后水洗一下,放入定影液。 定影的时候有几个需要注意的地方,定影液的夹子需单独使用,不可和显影液公用,一点点的定影液混入显影液就会影响显影液的显影效果,所以需要注意显影液的夹子在夹持底片水洗后不要直接浸入定影液,把底片扔进定影液盒就可以了。定影的时候可以开灯,在定影的前期,可看到定影后脱落的一层白膜,适当晃动把它去除,然后就可以放置不动它了,让它慢慢定,大概在15分钟就可取出水洗。定影的时候切忌底片重叠,即使定影盒空间比较小,也要每张都放置在不同位置,避免叠加。在白膜脱落后可叠加,并5分钟翻置一下,保证定影效果。定影液室温保存,可重复使用几次。定影不要时间太长,时间长伴随的就是底片的厚度降低,反差变小,不利于后期的扫描处理。 定影后直接放入循环水水洗,大概1小时后就可取出挂好,整个过程全部用夹子来做,不要用手,会留下指纹等痕迹,针对不同的品牌底片,干燥的时候现象不一样,以乐凯为例,干燥中会出现白色薄膜,这是正常现象,底片完全干透后自然消失。我一般是采取夹持挂晒,有干燥箱的更好。 流程中尽量保持底片与底片不接触,否则会有划痕,一次尽量不要大批量冲底片,当然,拍照的时候也一样,出一张好的照片比100张垃圾片强多了。 开始的时候觉得底片模式不如ccd方便,现在有点喜欢上冲片的感觉,就和摄影一样,数码单反用多了,现在回归胶片机,玩个乐趣和成就感。http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/brow/em09510.gif

  • 【分享】GB/T 23901-2009 《无损检测 射线照相底片像质》

    [size=3]GB/T 23901-2009 《无损检测 射线照相底片像质》共分为五部分:GB/T 23901.1-2009 无损检测 射线照相底片像质 第1部分:线型像质计像质指数的测定GB/T 23901.2-2009 无损检测 射线照相底片像质 第2部分:阶梯孔型像质计像质指数的测定GB/T 23901.3-2009 无损检测 射线照相底片像质 第3部分:黑色金属像质分类GB/T 23901.4-2009 无损检测 射线照相底片像质 第4部分:像质指数和像质表的试验评价GB/T 23901.5-2009 无损检测 射线照相底片像质 第5部分:双线型像质计图像不清晰度的测定[/size][b][b][size=3][/size][/b][/b]

  • 【求助】求助,透射电镜的底片冲洗。

    弱弱的问一句,冲洗底片的步骤是什么?我记得在大学的时候上课学的是水洗,显影,水洗,定影,水洗,晾干。但是现在我不确定了。我想问问,在显影和定影中间的那步水洗是不是必须的步骤?为什么?还有,显影过度的底片是不是还有救?谢谢大家的帮助。

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  • 冠乾科技 纳米压印胶 正性光刻胶 负性光刻胶 显影液 去胶液
    Negative PhotoresistsPositive PhotoresistsResist RemoversResist DevelopersEdge Bead RemoversPlanarizing, Protective and Adhesive CoatingsSpin-On Glass CoatingsSpin-On Dopants曝光应用特性对生产量的影响i线曝光用粘度增强负胶系列在设计制造中替代基于聚异戊二烯双叠氮(Polyioprene-Bisazide)的负胶。在湿刻和电镀应用时超强的粘附力;很容易用去胶液去除。 单次旋涂厚度范围如下:﹤0.1~200 μm可在i、g以及h-line波长曝光避免了基于有机溶剂的显影和冲洗过优于传统正胶的优势:控制表面形貌的优异线宽 任意甩胶厚度都可得到笔直的侧壁单次旋涂即可获得200 μm胶厚厚胶同样可得到优越的分辨率150 ℃软烘烤的应用可缩短烘烤时间优异的感光度进而增加曝光通量更快的显影,100 μm的光刻胶显影仅需6 ~ 8分钟光刻胶曝光时不会出现气泡可将一种显影液同时应用于负胶和正胶不必使用增粘剂如HMDSg和h线曝光用粘度增强负胶系列
  • 显影粉
    显影粉广泛用于电子显微镜实验室底片显影。 也可用于其它类型的科技摄影。对比 度高,操作洁净,快速显影。
  • 不锈钢显影槽
    不锈钢显影装置,每套有显影槽,定影槽,水洗槽和50片底片夹,有机玻璃显影架,冲洗电镜胶片专用。

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  • 闯入影视圈的奥豪斯,与八一电影制片厂不得不说的故事
    摘要:奥豪斯化身跨界达人,跻身胶片复古潮儿!今天为你讲解奥豪斯与胶片电影那些事儿。 一部热映的《芳华》把一段被尘封的历史推到了我们面前,同时也把承载了那段岁月的八一电影制片厂推到了我们面前。 八一电影制片厂,在那些岁月里,拍摄了诸多经典的、有着时代烙印的电影。如《地道战》、《地雷战》、《南征北站》等。这些黑白色的经典影片,没有如今的数码技术,到底是怎么拍摄出来的呢? 这里就不得不提到电影史上非常重要的——胶片。 过去的电影,都是由胶片拍摄。胶片分为35mm,70mm等不同规格,利用光化学原理呈像,是影像的底片。制作胶片电影是非常精细、精致且宏大的一项工程,从拍摄、冲洗、剪辑、到成片,流程复杂,工艺精细。 (胶片摄影机快门曝光示意图) 首先讲几个关于胶片电影的冷知识: 1. 在2012年之前,国内还是胶片电影的天下,此后数字电影制作技术逐渐蓬勃,我们能看到的胶片电影越来越少了。 2. 手机美图软件的「菲林」效果其实就是胶片感。 3. 2017年最棒的一部胶片电影是由克里斯托弗诺兰执导的《敦刻尔克》,该片3/4为35mm胶片、70mm胶片、IMAX70mm胶片拍摄,画质细腻逼真。 4. 在胶片电影时代,一部90分钟长的电影要用4万米的胶卷,全国几百个院线同时放映,需要同数量的拷贝胶卷,合起来要几千万米。 5. 十几二十年前盗版电影很盛行,知道为什么吗?请看上一条。 6. 有电影人说:不是35mm胶卷(及以上)拍的电影,就是让观众在电影院里看电视剧。(近年来国内电视剧多采用数字拍摄,以节省成本、方便剪辑。) 7. 很多国家保密档案和文化研究资料的底稿都是胶片存底的。所以胶片电影也许会消失,但胶片不会消失。 8. 全国的电影胶片工已经不足五十人。(注释1) 9. 全国关闭了很多胶片冲洗厂,但八一电影制片厂还保留着冲洗设备,用来冲洗、修复老电影胶片和国家档案的底片与正片。(注释2) 10. 八一电影制片厂胶片冲洗室在冲洗胶片之前,需要按要求配制各类定影液显影液,其中最重要的就是测试溶液的酸碱度,这一关键步骤正是用奥豪斯ST系列酸度计完成的。 纳尼,洗个照片还要酸度计?这个你就不懂了吧,容小编给你讲解讲解。 这要从胶片的成像开始讲起。我们所说的胶片一般是银盐感光胶片,以光化学原理成像的胶片是这样构成的。 所谓的「银盐」,是指卤素与金属银形成的化合物的总称,如氯化银、溴化银和碘化银。 氯化银微溶于水,它对波长很短的紫色区域及紫外线感光。 溴化银对蓝色区域光线感光。碘化银的作用重在增加感光范围。 如添加碘化银和溴化银的混合乳剂,感光范围能达到毫微米。 所以银盐的存在,是为了在短期曝光内,通过光化学反应,在胶片上留下影像。(注释3) 胶片电影制作的每一环节都非常重要,但在拍摄水平、胶片质量不变的条件下,最能影响最终成像效果的则是胶片冲洗环节。 在胶片电影称王的时代,胶片冲洗厂遍地开花、昼夜运转。每一次冲洗都需要配备多种类、大分量的显影液、定影液等,根据显影效果不同,显影液和定影液的配方比例也有很不同。其中最重要的是各化学试剂的配比量和化学试剂的酸碱值。 对于显影效果来说,酸度值越低,显影效果越差,若值越高,显影越快,反差也越大。一般情况下,配出的冲洗液pH 值固定在8.4-8.7之间,就能满足绝大多数显影效果。 同时,配比的溶液温度要保证在℃-20℃之间,以保证胶片的质量,因溶液温度过高,洗出的胶片会有雾感;溶液温度过低,胶片容易变脆、易断裂。 在这样配制大量冲洗液的要求下,值的准确性就显得尤为重要。到如今,大批量胶片冲洗液的配制需求已经很少了,但对胶片冲洗液的品质追求,依然是胶片爱好者及国家胶片档案资料保护、修复的基本要求。 作为与胶片电影有着深厚渊源的八一电影制片厂,决定采购可以满足快速、稳定、准确」的奥豪斯ST系列pH 计,以完成如今小批量、精确度要求高的国家档案类胶片冲洗、老电影胶片修复、存储等工作。 那么奥豪斯系列酸度计到底有什么出色之处呢?小编就选择其中一款——ST3100台式酸度计,给大家讲讲那些闪闪发亮的功能吧! 1. 奥豪斯ST3100台式酸度计可达到0.01pH 的精度,可以满足更精确的冲洗液配制要求。 (精度可达到0.01pH) 2. 多次测试酸碱值实验中,最难判断的是电极状态好坏,但奥豪斯ST3100台式酸度计自带的电极状况表情提示符,通过「笑脸」、「哭脸」等简易表情,帮助操作人员在测试前快速判断电极状况,方便了配制操作。 3. 配制冲洗液的工作室空间有限,奥豪斯ST3100台式酸度计采用主机和电极分体式设计,操作起来非常灵活。 4. 奥豪斯ST3100台式酸度计有温度补偿功能和温度电极,即使暂时选择不带温度电极的酸度计,后续如果需要,也可以配备。同时还有缓冲液自动识别,对于常常要测溶液温度的冲洗液配制实验来说,这个设计非常有用。 5. 奥豪斯ST3100台式酸度计的按键与显示非常简单,不用说明书就可以自学自用。为了方便使用,还自带快速操作指南。 6. 奥豪斯ST3100台式酸度计还有三点校准,比两点校准的测试范围更广、操作更方便。 7. 奥豪斯ST3100台式酸度计自带背光显示,在光线昏暗、环境有限的情况下也可以清楚读数。 8. 奥豪斯ST3100台式酸度计还有自动终点功能。在测试完成之后,不需要人为判断读数再手动确定读数,仪器会自动进行读数,得到的测试结果更为准确。 得知奥豪斯系列台式酸度计可以在八一电影制片厂有用武之地,作为一名奥豪斯人,小编真的觉得很自豪啊。 胶片电影不是一种情怀,而是一颗匠心。百年奥豪斯仪器,也正是秉持着这样一份匠心来做每一款产品。奥豪斯系列台式酸度计能进入八一电影制片厂,能为越来越重要、专业的胶片冲洗事业发光发热,也算是「天作之合」吧! 想要了解奥豪斯还能跨界哪些领域吗,请联系我们! 参考文献:注释1-2:李晗. 电影胶片工的“迟暮时代”[Z].经济,2016年12月07日注释3:蒋懿龙.知其然知其所以然 胶片成分及原理解读.[Z]摄影之家,2015年9月14日
  • 半导体行业湿电子化学品常用检测仪器及技术盘点
    湿电子化学品是半导体、集成电路等多个领域的重要基础性关键化学材料,是当今世界发展速度较快的产业领域。我国湿电子化学品2012年市场规模仅为34.81亿元,到2018年已增至79.62亿元,而2021年湿电子化学品市场规模预计超过100亿元。湿电子化学品(又称电子级试剂、超净高纯化学试剂、工艺化学品、湿化学品等)一般主体成分纯度大于99.99%,是电子行业湿法制程的关键材料,常用于湿法刻蚀、清洗等微电子、光电子湿法工艺制程,约占集成电路制造成本的5%。湿电子化学品湿电子化学品可分为通用性湿电子化学品和功能性湿电子化学品。通用湿电子化学品一般为单组份、单功能、被大量使用的液体化学品,包括酸、碱、有机溶剂等,常用于集成电路、液晶显示器、太阳能电池、LED制造工艺等;功能湿电子化学品指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的复配类化学品,包括蚀刻液、清洗液、光刻配套试剂等,常用于半导体刻蚀、清洗等工艺中。常见湿电子化学品(数据自中国电子材料行业协会)类别湿电子化学品约占湿电子化学品总需求比例(%)合计占比估计通用湿电子化学品过氧化氢16.70%88.20%氢氟酸16%硫酸15.30%硝酸14.30%磷酸8.70%盐酸4.80%氢氧化钾3.80%氨水3.70%异丙酮2.80%醋酸1.90%功能湿电子化学品MEA等极佳溶液3.20%11.80%显影液(半导体用)2.70%蚀刻液(半导体用)2.20%显影液(液晶面板用)1.60%剥离液(半导体用)1.20%缓冲刻蚀液(BOE)0.90%湿电子化学品的国际分类标准国际半导体设备和材料协会(SEMI)根据金属杂质、控制粒径、颗粒个数和应用范围等制定了湿电子化学品国际等级分类标准。Grade1等级湿电子化学品常用于光伏太阳能电池等领域;Grade2等级湿电子化学品常用于平板显示、LED、分立器件等领域;Grade3等级湿电子化学品常用于平板显示、LED、集成电路等;Grade4等级湿电子化学品常用于集成电路等领域。 IC制造不同线宽对应湿电子化学品国际等级分类标准SEMI等级IC线宽(μm)金属杂质(10-9)控制粒径(μm)颗粒(个/mL)C1(Grade1)>1.2≤1000≤1≤25C7(Grade2)0.8-1.2≤10≤0.5≤25C8(Grade3)0.2-0.6≤1≤0.5≤5C12(Grade4)0.09-0.2≤0.1≤0.2*Grade5*≤0.01**国际湿电子化学品市场国际湿电子化学品市场份额的80%主要被德国的E.Merck 公司、美国的Ashland 公司、Sigma-Aldrich 公司、Mallinckradt Baker 公司、日本的Wako 、Summitomo 等占据。欧美传统老牌企业的湿电子化学品产品市场份额(以销售额计)约为34%,主要企业有德国巴斯夫公司、美国亚什兰集团、亚什兰化学公司、美国Arch 化学品公司、美国霍尼韦尔公司、AIR PRODUCTS、德国E.Merck 公司、美国Avantor Performance Materials 公司、ATMI 公司等。日本企业约占30%的市场份额,主要企业关东化学公司、三菱化学、京都化工、日本合成橡胶、住友化学、和光纯药工业(Wako)、stella-chemifa 公司等。中国台湾、韩国、中国大陆企业(即内资企业)约占全球市场份额的35%。全球湿电子化学品行业主要企业国家及地区企业名称美国霍尼韦尔、ATMI、Arch化学品、亚仕兰集团、空气化工产品、Avantor™ Performance Materials德国巴斯夫、汉高、E.Merck日本关东化学、三菱化学、京都化学、东京应化、住友化学、宇部兴产、Stella Chemifa、Wako、日本合成橡胶韩国东友精细化工、东进世美肯、soulbrain ENG中国台湾台湾联仕电子、台湾侨力 国内湿电子化学品研究 自1980 年北京化学试剂研究所在国内率先研制成功适合5µm技术用的MOS级试剂开始,经过数十年积累,国内湿电子化学品企业陆续获得了 G1、G2 等级的化学试剂生产技术,少数部分技术领先企业已经具备 G2 等级化学试剂规模化生产的能力,部分产品的关键技术指标已经达到了国际G3 标准的水平。2010 年之后,技术领先企业的部分产品具备了 G3 等级的生产技术,行业进入快速发展阶段。国内的湿电子化学品目前主要生产G2、G3级别,仅部分达到G4级别,产品主要进口自欧美、日本、韩国、中国台湾的企业。湿电子化学品常用检测仪器与技术湿电子化学品的纯度和洁净度对于电子元器件产品的成品率、性能和可靠性有重要影响。仪器信息网特将湿电子化学品纯度及杂质分析和颗粒检测常用的仪器进行整理。湿电子化学品常用检测仪器常用仪器用途对应仪器专场(点击进入)粒度仪颗粒分析等粒度仪仪器专场电感耦合等离子体—质谱仪(ICP-MS)纯度和杂质分析等电感耦合等离子体—质谱仪(ICP-MS)仪器专场离子色谱纯度和杂质分析等离子色谱仪器专场电位滴定仪纯度和杂质分析等电位滴定仪仪器专场紫外可见分光光度计纯度和杂质分析等紫外可见分光光度计仪器专场液相色谱纯度和杂质分析等液相色谱仪器专场液质联用纯度和杂质分析等液质联用仪器专场
  • 半导体行业常用的十五类材料检测科学仪器与技术盘点
    自中美贸易战以来,国家对于半导体行业的重视日渐提升。为避免关键技术被“卡脖子”,国家大力推动半导体行业的发展,先后发布了《国务院关于印发新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展若干政策的通知》、《关于促进集成电路产业和软件产业高质量发展企业所得税政策的公告》等政策,从财税政策、投融资政策、研究开发政策、进出口政策、人才政策、知识产权政策、市场应用政策、国际合作政策等多个层面支持国内半导体行业的自主创新。半导体材料主要包括第一代半导体材料(Si等)、第二代半导体材料(砷化镓GaAs、锑化铟InSb等)、第三代半导体材料(碳化硅SiC、氮化镓GaN、氧化锌ZnO、金刚石、氮化铝等),以及在半导体工艺环节必须用到的特种气体、靶材、光刻胶、显影液、抛光液和抛光垫、键合胶、电镀液、清洗液、刻蚀液、研磨材料、掩模版、光阻材料等。其中,大部分半导体材料依赖于对外进口,目前主要进口自美国、日本、韩国等。表1 热门半导体材料主要进口国家及地区主要半导体材料主要进口国家及地区硅片等日本、德国、韩国、美国、中国台湾砷化镓GaAs等日本碳化硅SiC等美国、欧洲特种气体美国、德国、法国、日本靶材美国、日本光刻胶中国台湾、日本、美国抛光液和抛光垫美国、日本、韩国研磨材料美国掩模版日本湿电子化学品德国、美国、日本、韩国、中国台湾光阻材料日本封装材料中国台湾半导体材料的晶体结构和缺陷杂质都将对半导体器件的性能产生较大的影响,因此半导体材料的检测对于成品质量具有至关重要的意义,以下整理了半导体检测中用到的主要科学仪器及其在半导体领域的应用。表 半导体检测仪器和用途半导体检测仪器与技术(点击下方仪器进入专场)在半导体领域的应用光学测量仪器外延层厚度测量、测定元素含量、用于高纯气体分析等电学测量仪器(四探针、三探针、扩展电阻、C-V法、霍尔测量)测量电阻率、载流子浓度、导电类型、迁移率、寿命及载流子浓度分布等X射线衍射仪缺陷及形貌观察(无损检测),检测二次缺陷的形成和消除等金相显微镜观察晶体缺陷等俄歇电子能谱表面层原子成分、含量、化学键合状态分析等二次离子质谱杂质检测等扫描电镜微区形貌观察,成分、结构分析,失效分析,缺陷检测等透射电镜半导体晶体缺陷分析等原子吸收分光光度痕量杂质检测等气相色谱气体分析高频电感耦合等离子体发射光谱微量成分分析等离子束用于分析离子注入层和外延层损伤、定位等离子探针用于薄层分析、微区分析、测量浓度分布,分析痕量杂质等电子探针成分分析等以上列举了半导体行业用到的热门半导体材料和检测仪器,日后仪器信息网也将对半导体检测解决方案进行盘点敬请期待。

底片显影液是否需要检测相关的试剂

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