溶液沉积前驱体

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溶液沉积前驱体相关的厂商

  • 400-860-5168转3241
    载德半导体技术有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商,载德所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体高新企业。载德半导体技术有限公司目前代理的主要产品包括: - 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System); - 快速退火炉(RTP); - 回流焊炉,真空烧结炉(Reflow Solder System); - 探针台(Probe Station),低温探针台(Cryogenic Probe Station); - 贴片机(Die Bonder),划片机(Scriber),球焊机/锲焊机(Wire Bonder); - 原子层沉积系统(ALD),等离子增强原子层沉积设备(PEALD); - 磁控溅射镀膜机(Sputter),电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator),热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator),脉冲激光沉积系统(PLD) - 低压化学气相沉积系统(LPCVD),等离子增强化学气相沉积系统(PECVD),快速热化学气相沉积系统(RTCVD); - 反应离子刻蚀机(RIE),ICP刻蚀机,等离子体刻蚀机; - 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate); - 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe),光反射膜厚仪(Reflectometer); 等等...
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  • 山东奇科特种气体有限公司是一家专业从事气体的研发、生产、销售于一体的企业;公司坐落于孔孟之乡礼仪之邦的山东省济宁市。公司主营特种气体、校准用标准气体、标准溶液、气体充装设备为主导产品,并可提供无缝气瓶、低温气瓶及LNG车载气瓶、安全阀定期检验和氧氮氩低温液体的服务的专业化公司,我公司是国家二级标准物质研发和生产单位,拥有80余种国家二级标准物质定级证书。其中标准物气体产品山东省市场占有率超50%,省内各地市质量监督部门,环保部门,第三方检测机构均采用我司产品进行计量检测,并为先河环保、聚光科技、中石油、中石化、鲁西化工等多家上市公司提供产品 所生产的气体广泛应用于化工、煤炭、电力、科研、环保等各大行业。 公司一直专注于从事特种气体、标准气体、标准溶液的研发与生产,以提供优质产品和一流服务为宗旨,以先进的生产设备、精湛的检测手段、规范的管理制度,通过了质量管理体系认证,三级安全生产标准化生产企业,成为具有现代化管理水平的一流企业。
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  • 深圳市博林达科技有限公司成立于2000年,是中国规模化的标准物质专业生产厂商、国家高新技术企业,产品具备《中华人民共和国制造计量器具许可证》以及《国家标准物质定级证书》的双重资质。博林达标准物质广泛应用于电子、表面处理、化学品、汽车配件、环保、检测机构、能源、食品、材料、医药等领域,并获得了众多龙头企业的信赖,如检测领域的SGS、ITS等,食品领域的可口可乐、伊利集团、美极鲜等,家电领域的老板电器等,卫浴领域的TOTO、科勒等,石油领域的壳牌、克拉玛依油田等,化妆品领域的巴黎欧莱雅等......博林达拥有先进的检测仪器和设备、自动化生产流水线以及完善的品质管理体系,所生产的BOLINDA标准物质准确、稳定、可靠,可与国际知名品牌同类产品相媲美。BOLINDA标准物质每批都附有标准物质证书,它准确地指出测量值、不确定度、组成、可追溯性、生产日期和保质期等重要信息。博林达产品种类齐全包括无机标准溶液:滴定分析用标准溶液、单元素标准溶液、多元素标准溶液、离子色谱标准溶液、PH标准缓冲液、水质分析用标准溶液、化验室常用试液、指示液;有机标准溶液:环境检测标准溶液、食品检测标准溶液、农药残留检测标准溶液、兽药残留检测标准溶液、工业品检测标准溶液=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*= 深圳市博林达科技有限公司 市场部 陈小姐 电 话:0755-26867532/34-804 传 真:0755-26867531 手 机:18318207580 Q Q:2708068358 地 址:深圳市宝安区福海街道和平社区永和路双金惠工业城C栋5层 E-mail:chenying@bolinda.com.cn=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=*=
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溶液沉积前驱体相关的仪器

  • 台式三维原子层沉积系统ALD原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的纳米技术,以控制方式实现纳米的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。 美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28 cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,可多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计, 使温度均匀性高达99.9%,气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在 8英寸基体上膜厚的不均匀性小于1%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高达1500:1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。GEMStar XT 产品特点:■ 300℃ 铝合金热壁,对流式温度控制■ 175℃ 温控150ml前驱体瓶,200℃ 控输运支管■ 可容纳多片4,6,8英寸样品同时沉积■ 可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体■ 标准CF-40接口■ 可安装原位测量或粉末沉积模块等选件■ 等离子体辅助ALD插件■ 多种配件可供选择GEMStar XT 产品型号:GEMStar -4 XT:■ 大4英寸/100 mm基片沉积■ 单路前驱体输运支管, 4路前驱体瓶接口■ 不可升为等离子体增强ALDGEMStar -6/8 XT:■ 大6英寸(150mm)/8英寸(200mm)基片沉积■ 双路前驱体输运支管, 8路前驱体瓶和CF-40接口■ 可升为等离子体增强ALDGEMStar -8 XT-P:■ 大8英寸/200mm基片沉积■ 双路前驱体输运支管, 8路前驱体瓶和CF-40接口■ 装备高性能ICP等离子发生器13.56 MHz 的等离子源非常紧凑,只需风冷,高运行功率达300W。■ 标配3组气流质量控制计(MFC)控制的等离子气源线,和一条MFC控制的运载气体线,使难以沉积的氧化物、氮化物、金属也可以实现均匀沉积。GEMStar NanoCUBE:* 大100 mm 立方体样品 沉积* 单路前驱体输运支管, 2路前驱体瓶接口* 主要用于3D多孔材料,以及厚样品的沉积丰富配件:多样品托盘:* 多样品夹具,样品尺寸(8", 6", 4")向下兼容。* 多基片夹具,多同时容纳9片基片。 温控热托盘:* 可加热样品托盘,高温度500℃,可实现热盘-热壁复合加热方式。粉末沉积盘: 臭氧发生器: 真空进样器(Load Lock) 晶振测厚仪 前驱体瓶: 前驱体加热套:
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  • 产品详情德国 Sentech等离子沉积机 SI 500 D : 超高密度等离子体SI 500d具有特殊的等离子体特性,如高密度、低离子能量和介质膜的低压沉积。 平面等离子体源森泰克专利的平面三螺旋天线(PTSA)等离子体源允许高效率低功率耦合。 杰出的沉积特性低腐蚀速率、高击穿电压、低应力、基体无损伤、界面状态密度极低,沉积温度小于100℃,使沉积薄膜具有优异的性能。 动态温度控制 采用动态温度控制的基片电极,结合He背面冷却和基片背面温度传感,在室温至+350℃的大范围温度范围内,提供优良的稳定工艺条件。 SI 500d代表了等离子体增强化学气相沉积介电薄膜、a-Si、SiC和其他材料的前沿。它基于PTSA等离子体源,反应气体分离气体入口,动态控温基片电极,全控真空系统,采用远程现场总线技术的先进森泰克控制软件,以及一个非常友好的通用用户界面来操作SI 500d。 从直径200毫米的晶圆片到负载在载体上的各种基板,都可以在SI 500 d中进行加工。 SI 500d等离子体增强沉积工具可在室温至350℃范围内沉积SiO2、SiNx、SiONx和a- SI薄膜。溶液可用来沉积TEOS、SiC和其他具有液体或气体前驱体的材料。s500d特别适用于有机材料在低温下沉积高效的保护屏障,以及在规定温度下无损伤沉积钝化膜。 森泰科提供不同的自动化水平,从真空盒式磁带加载到一个过程室,多达六个端口集群,具有不同的沉积和蚀刻模块,目标是高灵活性或高吞吐量。SI 500d也可以作为集群配置上的进程模块。 SI 500 DICPECVD等离子体沉积工具与真空loadlock高达200毫米晶圆衬底温度从RT到350℃激光端点检测可选的衬底偏置
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  • 等离子体增强原子层沉积系统(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition System,PEALD)产地:美国埃米 主要产品系列:1.ALD (传统的热原子层沉积);2.PEALD (等离子增强原子层沉积);3.Powder ALD (粉末样品的原子层沉积); 仪器简介:原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD),也称为原子层外延(Atomic Layer Epitaxy,ALE),或原子层化学气相沉积(Atomic Layer Chemical Vapor Deposition,ALCVD)。原子层沉积是在一个加热反应的衬底上连续引入至少两种气相前驱体源,化学吸附至表面饱和时自动终止,适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。一个基本的原子层沉积循环包括四个步骤:脉冲A,清洗A,脉冲B和清洗B。沉积循环不断重复直至获得所需的薄膜厚度,是制作纳米结构从而形成纳米器件极佳的工具。ALD的优点包括:1. 可以通过控制反应周期数精确控制薄膜的厚度,从而达到原子层厚度精度的薄膜;2. 由于前驱体是饱和化学吸附,保证生成大面积均匀性的薄膜;3. 可生成极好的三维保形性化学计量薄膜,作为台阶覆盖和纳米孔材料的涂层;4. 可以沉积多组份纳米薄层和混合氧化物;5. 薄膜生长可在低温下进行(室温到400度以下);6. 可广泛适用于各种形状的衬底;7. 原子层沉积生长的金属氧化物薄膜可用于栅极电介质、电致发光显示器绝缘体、电容器电介质和MEMS器件,生长的金属氮化物薄膜适合于扩散势垒。 技术参数:基片尺寸:4英寸、6英寸、8英寸、12英寸;加热温度:25℃—400℃(可选配更高);均匀性: 1%;前驱体数:4路(可选配6路);兼容性: 可兼容100级超净室;尺寸:950mm x 700mm;ALD及PE-ALD技术; 原子层沉积ALD的应用包括:1) High-K介电材料 (Al2O3, HfO2, ZrO2, PrAlO, Ta2O5, La2O3);2) 导电门电极 (Ir, Pt, Ru, TiN);3) 金属互联结构 (Cu, WN, TaN,Ru, Ir);4) 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2, V2O5);5) 纳米结构 (All ALD Material);6) 生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAlN, AlTiN);7) ALD金属 (Ru, Pd, Ir, Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni);8) 压电层 (ZnO, AlN, ZnS);9) 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO) 10) 紫外阻挡层 (ZnO, TiO2) 11) OLED钝化层 (Al2O3) 12) 光子晶体 (ZnO, ZnS:Mn, TiO2, Ta3N5) 13) 防反射滤光片 (Al2O3, ZnS, SnO2, Ta2O5);14) 电致发光器件 (SrS:Cu, ZnS:Mn, ZnS:Tb, SrS:Ce) 15) 工艺层如蚀刻栅栏、离子扩散栅栏等 (Al2O3, ZrO2) 16) 光学应用如太阳能电池、激光器、光学涂层、纳米光子等 (AlTiO, SnO2, ZnO) 17) 传感器 (SnO2, Ta2O5) 18) 磨损润滑剂、腐蚀阻挡层 (Al2O3, ZrO2, WS2); 目前可以沉积的材料包括:1) 氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2,...2) 氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN, ...3) 氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2, ...4) 金属: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni, ...5) 碳化物: TiC, NbC, TaC, ...6) 复合结构材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx, ...7) 硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS, ...
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溶液沉积前驱体相关的资讯

  • 海南省市场监督管理局发布《土壤和沉积物 六价铬的测定 碱溶液提取-柱后衍生离子色谱法》(征求意见稿)
    各有关单位和个人:根据《海南省市场监督管理局关于下达海南省2022年第一批地方标准制订项目计划的通知》要求,由海南省生态环境厅提出,海南省生态环境监测中心等单位完成了《土壤和沉积物 六价铬的测定 碱溶液提取-柱后衍生离子色谱法》地方标准征求意见稿。现按照市场监管总局《地方标准管理办法》有关规定,面向社会公开征求该地方标准的相关意见。请各有关单位和个人于2023年5月13日前将修改意见填入征求意见表(见附件5),反馈至我局标准化处邮箱bzh65310955@163.com。联系人:王旭日,电话:65313709。海南省市场监督管理局2023年4月13日
  • 新美光“衬底加热体组件及化学气相沉积设备”专利公布
    天眼查显示,新美光(苏州)半导体科技有限公司“衬底加热体组件及化学气相沉积设备”专利公布,申请公布日为2024年7月23日,申请公布号为CN118374794A。背景技术以常见的碳化硅部件-等离子刻蚀环为例,目前较为普遍的等离子刻蚀环生长、加工工艺为:将环状石墨衬底以多片层叠方式安装在化学气相沉积炉内,采用石墨电极进行电阻加热将炉内加热至碳化硅材料生长温度,持续向炉内通入前驱体和载气,前驱体在高温下热解反应出碳/硅原子并在石墨衬底上反应沉积得到碳化硅材料,最终通过微纳加工获得满足使用要求的等离子体刻蚀环。整个工艺过程中,因衬底表面为直接发生碳/硅原子反应沉积的位置,最终决定材料的均一性和碳化硅晶体品质,衬底沉积表面流场均匀性及温度均匀性比较关键。但在上述工艺中存在以下客观缺点:1、石墨衬底置于碳化硅生长炉内加热时,因衬底径向外侧在空间上更加接近石墨加热器,故客观的会接收更多的热辐射而导致衬底径向外侧的温度高于内侧;同样的,石墨衬底的外侧因离进气口比较近,前驱体热解出的碳/硅原子基团会持续优先在衬底外侧的表面沉积,最终会影响碳化硅材料在石墨衬底径向上生长的均匀性;石墨衬底的外侧表面因为较内侧有更高的温度和更高浓度的碳/硅原子基团,石墨衬底的外侧碳化硅沉积材料一般厚度较大且表面平整性差,对于碳化硅零部件后续的加工也造成了时间的浪费和成本的提高。2、石墨衬底常用的固定方式为采用石墨顶针在衬底底面进行支撑,该方案因石墨顶针会直接接触到衬底表面,故被石墨顶针接触到的衬底表面区域碳化硅材料生长过程必然会受到影响,相应区域的沉积材料无法加工成产品使用,故在加工过程中一般采取将受影响区域进行切割废弃的措施,增加了加工时间和成本。3、层叠多片式的碳化硅部件材料生长设备,腔体内部的流场无法实现完全的均匀性,主要表现在离进气口近、排气口远的材料生长速率高,反之生长速率低,最终导致同一批次的材料厚度均一性差。发明内容本发明涉及一种衬底加热体组件及化学气相沉积设备,其中提供了一种衬底加热体组件,包括衬底和加热体,衬底包括第一表面、第二表面和中空区,第一表面和第二表面均用于供反应气体沉积,中空区位于第一表面和第二表面之间;加热体位于中空区内,用于产生热量以至少加热第一表面和第二表面。本发明的衬底设计为内部中空的结构,第一表面及第二表面均为衬底靠近中空区部分的外表面,位于中空区的加热体对衬底的第一表面和第二表面沿径向的各个位置的加热效果相对较为平均,不容易产生沉积的产品厚度差异过大的问题,一定程度上提高了衬底上沉积材料的厚度均一性及组织性能均匀性。
  • 纳米薄膜材料制备技术新进展!——牛津大学也在用的薄膜沉积系统,有什么独特之处?
    一、纳米颗粒膜制备日前,由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成,可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。集成了纳米颗粒源的MiniLab125磁控溅射系统 传统薄膜材料的研究专注于制备表面平整、质地致密、晶格缺陷少的薄膜,很多时候更是需要制备沿衬底外延生长的薄膜。然而随着研究的深入,不同的应用方向对薄膜的需求是截然不同。在表面催化、过滤等研究方向,需要超大比表面积的纳米薄膜。在这种情况下,纳米颗粒膜具有不可比拟的优势。而传统的磁控溅射在制备纯颗粒膜方面对于粒径尺寸,颗粒均匀性方面无法实现控制。气相沉积法、电弧放电法、水热合成法等在适用性、操作便捷性、与传统样品处理的兼容性等方面不友好。在此情况下,Moorfield Nanotechnology推出了与传统磁控溅射和真空设备兼容的纳米颗粒制备系统。不同条件制备的颗粒粒径分布(厂家测试数据)不同颗粒密度样品(厂家测试数据)纳米颗粒制备技术特点:▪ 纳米颗粒的大小1 nm-20 nm可调;▪ 多可达3重金属,可共沉积,可制备纯/合金颗粒;▪ 材料范围广泛,包括Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti、Zr等▪ 拥有通过控制气氛制造复合纳米粒子的可能性(类似于反应溅射)▪ 的纳米颗粒层厚度控制,从亚单层到三维纳米孔▪ 纳米颗粒结构——结晶或非晶、形状可控纳米颗粒膜的应用方向:▪ 生命科学和纳米医学: 癌症治疗、药物传输、抗菌、抗病毒、生物膜▪ 石墨烯研究方向:电子器件、能源、复合材料、传感器▪ 光电研究:光伏研究、光子俘获、表面增强拉曼▪ 催化:燃料电池、光催化、电化学、水/空气净化▪ 传感器:生物传感器、光学传感器、电学传感器、电化学传感器 二、无机无铅光伏材料下一代太阳能电池的大部分研究都与铅-卤化物钙钛矿混合材料有关。然而,人们正不断努力寻找具有类似或更好特性的替代化合物,想要消除铅对环境的影响,而迄今为止,这种化合物一直难以获得。因此寻找具有适当带隙范围的无铅材料是很重要的,如果将它们结合起来,就可以利用太阳光谱的不同波长进行发电。这将是提高未来太阳能电池效率降低成本的关键。近期,牛津大学的光电与光伏器件研究组的HenrySnaith教授与Benjamin Putland博士研究了具有A2BB’X6双钙钛矿结构的新型无机无铅光伏材料。经过计算该材料具有2 eV的带隙,可用做光伏电池的层吸光材料与传统Si基光伏材料很好的结合,使光电转换效率达到30%。与有机钙钛矿材料相比,无机钙钛矿材料具有结构稳定使用寿命更长的优势。而这种新材料的制备存在一个问题,由于前驱体组分的不溶性和复杂的结晶过程容易导致非目标性的晶体生长,因此难以通过传统的水溶液法制备均匀的薄膜。Benjamin Putland博士采用真空蒸发使这些问题得以解决。使用Moorfield Nanotechnology的高质量金属\有机物热蒸发系统,通过真空蒸发三种不同的前驱体,研究人员成功沉积制备出了所需要的薄膜。真空蒸发具有较高的控制水平和可扩展性,使得材料的工业化制备成为可能。所制备的薄膜在150℃退火后,XRD图。所制备的薄膜在150℃退火后,表面SEM图 三、Moorfield 薄膜制备与加工系统简介Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 – MiniLab旗舰系列和nanoPVD台式系列是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的结晶。产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统,可用于高质量的科学研究和中试生产。设备的功能和特点:▪ 蒸发设备:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发▪ 磁控溅射:直流&射频溅射、共溅射、反应溅射▪ 兼容性:可与手套箱集成、满足特殊样品制备▪ 其他功能设备:二维材料软刻蚀、样品热处理▪ 设备的控制:触屏编程式全自动控制

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溶液沉积前驱体相关的耗材

  • HJ1315-2023土壤和沉积物19种金属元素总量的测定石墨消解仪
    《HJ1315-2023土壤和沉积物19种金属元素总量的测定 电感耦合等离子体质谱法》将于2024年6月1日正式实施。新标准中,使用微波消解法或电热消解法对样品进行消解,然后使用ICP-MS一次完成19种金属元素的同时测定,解决了土壤和沉积物中元素分析标准多、前处理方法复杂等问题。微波消解法称取0.1±0.0001g土壤样品于微波消解管中,沿内壁滴加少量试验用水润湿样品,依次加入9mL硝酸和3mL盐酸,加盖拧紧,将消解管放入微波消解仪中。参照下表升温程序进行微波消解。消解结束后冷却至室温。从微波消解仪中取出消解管,打开消解管盖子,在消解管中加入2mL氢氟酸,将消解管置于专用赶酸器上,140℃加热至内容物呈不流动的粘稠状态。取下稍冷,加入1mL高氯酸,180℃继续加热至白烟几乎冒尽,内容物呈粘稠状态。取下消解管冷却至室温,用2%硝酸溶液反复多次洗涤管内壁,洗涤液一并转入容量瓶中,用2%硝酸溶液定容至标线,混匀,待测。电热消解前处理称取0.1±0.0001g土壤样品于消解管中,依次加入10mL硝酸,5mL氢氟酸,2mL盐酸,1mL高氯酸,在石墨消解仪上加内盖,150℃加热3小时(可根据实际消解情况加长时间),升温至180℃,打开内盖进行赶酸,如有明显黑色不溶物时,需补加硝酸,继续180℃消解赶酸,待消解液呈粘稠不流动状态时,取下消解管冷却至室温,用2%硝酸溶液洗涤管壁,洗涤液一并转入容量瓶中,用2%硝酸溶液定容至标线,混匀,待测。
  • 电子显微镜专用用碳沉积
    CARBON FILL,MGIS碳沉积(多支气体注入系统专用)用于原厂电子显微镜多支气体注入系统,碳沉积(多支气体注入系统专用)是一种存放碳化合物的容器,将药品加热到一定温度,药品气化,在真空压差和可控阀门的作用下,将药品气体喷洒在样品表面,同时在离子束的诱导作用下将碳分子沉积在样品表面。以实现对样品表面形貌的保护,或对样品进行导电处理。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。
  • 脉冲激光沉积用准分子激光器
    IPEXTM 840/860 PLD系列 脉冲激光沉积用准分子激光器Excimer Lasers for Pulsed Laser Deposition基于轻工机械最畅销的Ipex系列工业级准分子激光器,为PLD应用优化了激光器优秀的光束匀称性,脉冲到脉冲能量稳定和短脉冲持续时间在所有重复率能量恒定最长气体寿命和最低运行成本的ICONTM(在镍集成陶瓷)技术EasyClean自动光学密封,以保持填充气体,减少维护时停机时间高亮度镜头,适用于要求低光束发散或延长相干长度定制光束传输系统IPEX-840/860系列准分子激光器在脉冲激光沉积(PLD)领域展现了优异的性能、耐用性、可靠性和满足研究人员和系统集成商要求的易于集成性能。稳定性能得到可靠PLD结果:能量恒定IPEX-840/860系列激光器的指定脉冲能量从单脉冲到最大重复频率都是恒定的。这与其他有竞争力的激光器智能在地重复频率能量恒定和能量岁脉冲重复率上升而快速下降形成鲜明对比。LightMachinery的方法使PLD的工艺参数与激光重复率是一个恒量。恒定脉冲稳定性在PLD应用中,脉冲能量受一个先进的能量监视器监控,能够准确的调节放电电压和混合气体,在任何操作条件,包括PLD需要的突发脉冲,恒定输出能量。指向性恒定不变高稳定性使镜片座能够有200m-radian指向稳定性和光学维护后不需要调制光束角度光束质量稳定性IPEX-840/860系列激光器的光束强度分布被设计为边缘陡峭,顶部平坦,特别是激光管寿命的微小变化。PLD光束传输系统我们可以针对任何特定的PLD要求提供完整的激光传输系统规格 设备电源: 单相,200-240V,20A,50/60Hz冷却水:5 litres/minute,5-20℃,40-60psig激光气体:预混合气,具体请联系我们
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