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硅烷类气体中杂质分析检测方案

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制备多晶硅时,用液氨法在低温下产生的硅烷,除主成份Sil 外,尚台H 、微 NH。、 sizH B、cH 、Hzo、oz、N:、PH。,以及痕量的B H 和A sH。等杂质,而其中有些杂质, 如CH.、H zO、Nz等,主要由液氨带入。因此,要加强原材料的分析,严格监控 艺过程 中硅烷气内的有害杂质,采取必要的纯化措施。这样,将大大提高由分解炉中析出的多晶硅 质量。采用气相色谱法分析硅烷及其杂质,由于它具有快速 灵敏、准确、进样量少等优点, 正逐步被人们采用。 本文主要介绍我们工作中用来分析SIH 及其CH

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维普资讯 http://www.cqvip.com 硅烷及其杂质的气相色谱分析 广州半导体材料研究所 陈澄清 前 言 制备多晶硅时,用液氨法在低温下产生的硅烷,除主成份SiH,外,尚含H、微量NH.SiH,CH,H,O、O、N.、PH,以及痕量的B.H和AsH,等杂质,『而其中有些杂质,如CH、H,O、N,等,主要由液氨带入。因此,要加强原材料的分析,严格监控工艺过程中硅烷气内的有害杂质,采取必要的纯化措施。这样,将大大提高由分解炉中析出的多晶硅质量。采用气相色谱法分析硅烷及其杂质,由于它具有快速、灵敏、准确、进样量少等优点,正逐步被人们采用。 本文主要介绍我们工作中用来分析SiH,及其CH、H.0、0、N、PH等微量杂质的气相色谱法。 仪器:北京分析仪器厂SP-2304A型气相色谱仪。 检测器:TCD. 测定条件: 1.SiH、CH,和H,0的测定 色谱柱:401有机担体柱,长2米,内径3毫米,60~80目。 气;氢气,流量70毫升/分。 温:180°C 流:180毫安。 进样量: 1毫升。 2. 0.、N,的测定 色谱柱:TDX-01柱,长2米,内径3毫米,80~100目。 载气::氢气、流量40毫升/分。柱桥 40°C。 180毫安。 进样量:1毫升。 3. PH的测定 色谱柱: GDX--501柱,长3米,内径3毫米,80~100目。 气:氢气,流量30毫升/分。柱桥 :440°C. : 150毫安。 进样量::5毫升。 结 果 与 讨论 1.定性分析 用标样的保留时间定性。 2. 定量计算 对各组份的含量,以峰高值用下式作定量计算 式中,X%一待测样品品某组份的体积百分含量;h:一标样的峰高(毫伏)j h:--待测组分的峰高(毫伏);V,一标样进样量(毫升)jV,一待测样品的进样量(毫升);K、K:一分别为标样与待测样品中测定某组某时的衰减值 Cs--标样中某组份的体积百分分量。 如引入定量因子,则上式可改与成 式中,F-以峰高求含量的定量因子,它等于 3. 实验结果 (1)按上述给定的测定条件,用401有机担体柱,除可测定SiH,外,尚可用来定微量CH,和H.O,其色谱图如图1。 SiH,及JCH、H20分分析图 (2)用TDX-01柱,,可测定SiH,中微量0.、N2。从谱图图(见图2)可见,主组份SiH,及其它杂质既不出峰,又不干扰,这说明在上述测定条件下,选用,TDX-01柱来分析SiH,中的O:、N.是合适的。 2 SiH中微量O:、N:分折色谱图 图3SiH 中微量PH分析色谱图 (3)用GDX-501柱分析SiH中PH的色谱图示于图3。在上述给定的测定条件下,可满意地测定SiH,中的PH。 4. 几点讨论 (1)根据资料介绍和实验结果,对SiH,中O、N,分析,柱温在16~52°℃范围内均能分离,尤以20°℃为最佳。但因我们实验室尚无恒温设备,所以,只好把柱温选在40°C。SiH,中PH测定的柱温选择,也属同样情况。 (2)实验表明,分析SiH,中的PH时,用镀金钨丝热导池,在上述给定的条件下,可获得满意的结果。但用铼钨丝热导池,上述色谱条件则不理想。根据实验,如把桥流提到180~220毫安,载气流量提到50毫升/分时,亦可得到很好的结果。 (3)为确保分析的准确度与安全,要求取样系统与色谱系统有极好的气密性。分析前,应仔细地清除管线的微量水。 ( 梦 考 文 献 ) 1 G.Guiochon and C. Pommier, Gas Chromatography in InorganicsandOrganometallics 2. 中国医学科学院卫生研究所编, 《气相色谱仪在环境监控中的应用》。 3. 天津化学试剂二厂编,《GDX和TDX色谱固定相鉴定会议资料汇编》,上、下册。 4. 中国科学院半导体研究所, “充N.的PH和充N,的SiH混合样分析”。 经作者同意,由化工部光明化工研究所蔡体杰改写

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杭州克柔姆色谱科技有限公司为您提供《硅烷类气体中杂质分析检测方案 》,该方案主要用于其他中杂质分析检测,参考标准《暂无》,《硅烷类气体中杂质分析检测方案 》用到的仪器有氦离子化气相色谱仪。

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