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墨粉中形貌观测,成分分析检测方案(扫描电镜)

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检测项目 形貌观测,成分分析

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打印机墨粉的微观结构及形状等直接影响着打印质量,因此它受到广泛的研究关注。利用日立场发射扫描电镜SU8220观测的墨粉颗粒,不仅可直接观测到表面的细节形貌及成分衬度。搭载能谱分析还能分析油墨表面的成分。

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利用日立FE-SEM观测墨粉颗粒(无减速)SU8220 0.8kV 5.4mm x7.00k SE(L) 日立八夕HITACHI HITACHI 5.00um SU8220 0.8kV 5.4mm x7.00k HA(T)F70 5.00um 打印机墨粉的微观结构及形状等直接影响着打印质量,因此它受到广泛的研究关注。上图是用日立场发射扫描电镜SU8220观测的墨粉颗粒,左图是用低位探头(Lower detector)观测的结果,右图为顶探头(Top detector)的观测结果。 左图中,可以观测到8um的立体感较强的墨粉大颗粒及其表面分布的200nm小颗粒。 顶探头探测的高角度BSE信号可以很好地把轻重元素区分开来,右图中可以看出,墨粉颗粒上有外部引入的重元素杂质(亮点),且表面上200nm的小颗粒也可以很好地观测到。 利用日立FE-SEM 观测墨粉颗粒(无减速) SU8220 0.8kV 5.4mm x50.0k SE(L) 1.00um SU8220 0.8kV 5.4mm x50.0k HA(T)F70 1.00um 上图为墨粉颗粒放大50,000倍后的图像,左图为低位探头观测的结果,可以观测出墨粉颗粒上存在三种形状的细小颗粒。利用顶探头和能量过滤器可以完全探测弹性背散射电子,其只反映成分衬度。右图为顶探头探测的图像,可以很好地观测到表面细小颗粒(红色箭头处)的成分差异。 利用日立FE-SEM又测墨粉颗粒(无减速) HITACHI SU8220 0.3kV-D 2.1mm x100k SE+BSE(U) 500nmSU8220 0.3kV-D 2.1mm x100k BSE(T)F120 500nm 上图是在减速模式下,着陆电压为300V的情况下观测到的墨粉的表面细微结构(放大100,000倍)。左图为高位探头(Upper detector)探测的图像,其能同时接收SE和BSE,既能观测平滑表面又能观测到表面上细小结构(黄色箭头处)。利用顶探头和能量过滤器,可以探测高角度BSE信号。右图中,利用顶探头可以很好地观测到不同形状颗粒的成分差异。 MAG:40.0kx HV: 7kV WD:10.6mm 利用大面积SDD探测器做的能谱面扫结果如左图所示(40,000x),结果显示,圆形颗粒为Si(右上图),针状物为Ti(右中图),外部杂质为Ce(右下图)。在不导致样品损伤变形的情况下就可以快速探测出三种元素的分布。 SU8040 with XFlash5060F Quad DetectorAcc.Voltage :7kVMag.40,000xM'ment time: 180 sec CopyrightOHitachi High-Technologies Corporation All Rights Reserved.

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