ICP-MS
唐伯猫点蚊香
第1楼2008/04/08
你好,又见面了.P还好说,HF除硅后,硝酸浸取.B难处理,我们一般用发射光谱直接测定,可测Xmg/kg.
chauchylan
第2楼2008/04/08
高纯硅中P和B的检测方法最好的还是用GD-MS进行分析,结果要比ICP-MS可信度高..
枪手怪蜀黍
第3楼2008/04/08
GD-MS只是传说中的仪器，我们只有ICP-MS，就拿ICP-MS说事吧，没有机会用到的仪器还是别提了。怎么有效防止BF3的挥发才是根本
kiwi-kids
第4楼2008/04/08
低温消解，硅粉硝酸溶液，加一点氢氟酸
风起云飘舞
第5楼2008/04/08
双氧水、硝酸、氢氟酸，通通试试看，呵呵总会成功的
第6楼2008/04/08
硅表面杂质分析一般是用稀混酸低温长时间溶解
第7楼2008/04/08
还没有实际分析过...前处理好像是用微波密闭加酸消解吧...
第8楼2008/04/08
硅表面杂质分析,若有条件的话,可以用LA-ICP-MS试试..
第9楼2008/04/08
按照SEMI的标准方法是石墨炉和ICPMS，可以做到最高7个9左右现在还有很多用的是VPD－ICPMS
第10楼2008/04/09
在ICP-OES中好像有加甘露醇防止BF3的挥发,可以试一试..
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