ICP-MS
ivy1128
第1楼2008/12/30
自己顶一下,高手说一下呀.还有容样时用什么纯度的酸,谢谢了呀
nps
第2楼2008/12/30
硅片样品的表面金属杂质还是总体金属杂质?处理方法都不一样的,可以肯定一点,HNO3:HF=1:1浓度肯定是高了...其他的不能多说了...
醉卧红尘
第3楼2008/12/31
呵呵,不好意思,我没有做过纯硅样品,只是在其它样品中含有硅。我是用HNO3 5ml HF 0.5ml微波消解,180度,30min, HNO3 优级纯 HF MOS不知道有没有用
luckyfox
第4楼2009/01/04
试试就行
第5楼2009/01/04
不建议这么做,非常不建议
风起云飘舞
第6楼2009/01/30
酸的纯度要求还得看硅片的纯度,有些太好的酸去溶解次的硅简直是浪费资源,用1:1基本可以,但是温度上不好控制,和挥发的空间也有关系,做过些实验,特别对非金属的检测,BP很难控制。
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