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icpms测试水样,哪些环节会导致Ta污染呀

  • Ins_66101048
    2024/09/21
  • 私聊

ICP-MS

  • ICPMS测试水样,哪些环节会导致Ta污染呀
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  • 通标小菜鸟

    第1楼2024/09/23

    应助达人

    在ICP-MS测试水样过程中,可能导致Ta污染的环节主要包括:

    1、样品消解:在样品消解过程中,使用的酸和其他化学试剂可能会引入Ta污染。例如,使用的酸和去离子水中可能含有微量的Ta,这些微量元素在消解过程中可能会释放到水样中,从而影响测试结果的准确性。

    2、样品前处理:在样品的前处理过程中,如过滤、稀释等操作,使用的滤膜、容器等可能会释放出Ta,尤其是在使用国产酸进行消解时,可能会引入额外的Ta污染。

    3、环境因素:环境中的常量元素,如铁和钠,以及广泛存在的元素,如镁,如果在样品收集、运输或存储过程中没有得到适当处理,也可能会成为样品中的污染源,影响Ta的测定。

    4、仪器和试样制备所引入的杂质离子干扰:采样锥和分离锥材料中溅出的金属离子,以及试剂和水中微量杂质离子,也可能成为Ta污染的来源。例如,镍锥中溅射出的Ni 约为2ng/mL,这些微量杂质离子在ICP-MS测试过程中可能会干扰Ta的测定。

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  • JOE HUI

    第2楼2024/09/23

    应助达人

    楼主,在 ICP-MS 测试水样的过程中,以下环节可能会导致 Ta 污染:

    1.样品前处理过程:如果使用的试剂纯度不够,可能引入杂质,造成污染。例如,酸溶法中使用的酸含有较高的 Ta 本底值。

    2.实验器具:如容器、移液器、雾化器、进样管等未清洗干净,残留有 Ta 元素。

    3.环境因素:实验室空气中的颗粒物或其他含 Ta 污染物可能进入样品。

    4.标准溶液配制:标准溶液的配制过程中,如果容器污染或操作不当,可能使标准溶液中含有 Ta。

    5.仪器部件:ICP-MS 的进样系统(包括炬管、雾化器等)、接口等部位,在之前的测试中可能受到 Ta 污染,且未能彻底清洗干净。

    6.交叉污染:在连续测试不同样品时,若未充分清洗或更换相关部件,可能导致 Ta 从一个样品传递到另一个样品。

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  • 123

    第3楼2024/09/23

    应助达人

    样品准备:在样品的采集、存储和前处理过程中,如果使用的容器或工具含有Ta,可能会导致样品污染。例如,使用的塑料器皿如果含有Ta作为添加剂,可能会在酸性条件下释放Ta进入样品。试剂和溶剂:使用的酸和溶剂如果含有Ta杂质,也会导致样品污染。因此,选择高纯度的试剂和溶剂对于防止污染至关重要。仪器部件:ICP-MS的内部部件,如雾化器、输送管线、接口锥和透镜系统,如果未得到充分清洁或含有Ta,可能会向样品引入污染。交叉污染:在分析不同样品时,如果前一个样品含有较高浓度的Ta,且仪器未能彻底清洗,可能会导致交叉污染。气体和消耗品:使用的氩气或其他气体如果含有Ta杂质,也可能导致污染。

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