【讨论】FID基线3000多，和makeup的N2有什么关系吗？

一般都是气体不纯造成的背景高，但也没这么高得出奇的。

我们的一路TCD，也用的这个N2做载气，但就没有出现这个离奇的高基线啊~~

不进样，仪器ready状态，signal是多大呢？

是否也是3000多，如果是，可能是FID受潮了，拆开FID清洗，烘干装上，信号就应该下来了。

多谢多谢~~

我们不进样，基线是从几百开始呈指数型的向1000、2000增长；而其他实验室看了，不进样才80，比较稳定。

是FID受潮？和makeup 的N2没有关系是吗？

也就是说我们可能进了潮气很大的样品？

为什么我们降N2流量基线就会下来呢？

平时检测器温度是否较低？

FID污染，拆开FID清洗，N2、H2、AIR气流量改变基线改变正常

我们测样和不测样都是250度，除了关机方法。

是检测器温度的影响吗？

“N2、H2、AIR气流量改变基线改变正常”这句话怎么理解啊？？

昨天我们换了N2的硅胶，今天又换了N2的活性炭，现在降到300多。

好像还真是N2有污染。

现在基线还在缓慢的往下降，不知道能不能恢复~~