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第6楼2010/12/04
核的Overhauser效应——NOE
选择性地照射一种质子(HA)使其饱和,则与该质子在立体空间位置上接近的另一个或数个质子(HB等)的信号增高的现象称为核Overhauser效应。
NOE的强度可用百分率表示——以照射前某质子HB的吸收强度为B1,照射HA后HB的强度增至B2,则NOE=( B2 - B1)/ B1 *100%。
NOE主要用来确定两种质子在分子立体空间中是否距离相近,若存在NOE,则表示两者( HA与HB )接近。NOE值越大,则两者在空间的距离就越近。
实际工作中,NOE常常是确定分子中某些基团的位置、立体构形和优势构象的重要手段之一。
在确定双键两侧取代基的排列方式时,也常求助于NOE实验。