电镜样品的积碳问题

主要是因为高能电子的能量使样品表面吸附的碳发生自由基反应，形成分子量高的，难以挥发的化合物。如果样品室干净一些会有所改良，也可以通过等离子清洗搞定，用液氮冷阱也会好一些，有些低真空电镜在低真空操作的时候也会少些积碳污染，不过和样品表面有关的。

受教，多谢了

书上抄一段吧：

碳污染：在电子束轰击下碳和含碳物质（由电子对样品表面污染物和/或真空系统的残余油气体轰击产生）在试样表面上的进行性积累。

污染主要由残余气体分解及试样表面污染物分解产生（主要是碳污染）。残余气体指仪器本身残余气体、油的蒸汽；试样交换时带入的气体；导电胶或导电带挥发物；试样表面污染污染主要指加工时有机物污染（松香，清洗剂等）、油污染，电子束照射嵌镶试样的环氧树脂产生分解产物等。

说的非常全面， 而且这种污染现象越是低电压越是能看出这些污染物来， 一般来说像冷场加的冷井是用于吸附部分污染物，而不能去除碳污染。 而可以参考下置顶帖所讲的电镜上面加的Plasma Cleaner可以很彻底去除掉这种污染现象， 长久保持样品室干净的真空度和系统分辨率。

多谢诸位！有谁使用过等离子清洗设备吗，效果如何呀？