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问个关于基底的问题!

扫描探针显微镜SPM/AFM

  • 大家用的si片一般是如何清洗的,才能达到洁净平整呢?多谢谢了!
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  • 清风侠

    第1楼2006/04/04

    这个好像是要酸洗的,为什么不用mica?

    ifish 发表:大家用的si片一般是如何清洗的,才能达到洁净平整呢?多谢谢了!

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  • flycy

    第2楼2006/04/04

    我们的SI是用酸洗 然后碱洗 ,然后蒸馏水洗,每次都用超声震10min 但是我们还是用云母比较多

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  • ifish

    第3楼2006/04/04

    能具体说一下吗?多谢了

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  • naj1010

    第4楼2006/04/21

    一般这样处理:


    硫酸/双氧水/水=75/16/9

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  • coco

    第5楼2006/12/08

    请问您能具体说一下吗?酸,碱浓度分别是多大?
    再者,请教论坛里各位大虾,采用Si基底制样和云母,石墨等相比有什么优势?

    flycy 发表:我们的SI是用酸洗 然后碱洗 ,然后蒸馏水洗,每次都用超声震10min 但是我们还是用云母比较多

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  • mitchie

    第6楼2006/12/09

    H2O2/H2SO4(3:7)超声20分钟,超纯水洗,N2吹干

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  • bme81

    第7楼2006/12/15

    H2O2/H2SO4 放热一小时,放入Si100, 15min即可

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  • JayZHONG

    第8楼2006/12/15

    放热一个小时,是指室温自然放置吗?

    bme81 发表:H2O2/H2SO4 放热一小时,放入Si100, 15min即可

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  • jeasy

    第9楼2006/12/18

    H2O2/H2SO4=3:7在90摄氏度煮一小时,冷却后用水超声清洗三遍,氮气吹干就可以,处理后的表面是羟基化的表面

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  • wellpaper

    第10楼2006/12/18

    为什么要是羟基化的表面呢??

    我有个问题,做纳米粉末样品,也是想用SI做基底,可是我用乙醇或水做溶剂,当我一滴到基底上,马上就铺开了,我现在想找个润湿角小一点的。

    是换溶剂呢还是换基底?

    jeasy 发表:H2O2/H2SO4=3:7在90摄氏度煮一小时,冷却后用水超声清洗三遍,氮气吹干就可以,处理后的表面是羟基化的表面

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