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如何定量或者半定量地估算离子产率?

ICP-MS

  • 有个疑问在心里挺久了,发出来请各位讨论下:


    我们在考虑目标元素的某种干扰时,假如有多少干扰源的存在,如39Ar16O1H、40Ar16O、40Ca16O、39Ca17O、39Ca16O1H,其amu均等效于56Fe。又如14N16O1H、15N16O,其amu等效于31P。。。。

    平时我们讨论干扰的时候,多半会认为56Fe受40Ar16O或者40Ca16O的干扰。这一方面当然在于ICP用Ar源而且40Ar的丰度为0.99600(http://zh.wikipedia.org/wiki/%E6%B0%AC%E7%9A%84%E5%90%8C%E4%BD%8D%E7%B4%A0

    同时ICP为处于大气压下有丰富的丰度为0.99757(http://zh.wikipedia.org/wiki/%E6%B0%A7%E7%9A%84%E5%90%8C%E4%BD%8D%E7%B4%A0)的16O

    问题在于:对于这些多来源的干扰,是否有研究文献或者公式来定量/半定量地计算它们的贡献呢?
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  • 光哥

    第1楼2013/07/04

    应助工程师

    不知道我这问题是否阐述清楚,用个实例来说明吧:

    以之前发过的帖子里,硅里面的Ti为例:

    Ti有amu=46、47、48、49、50五种稳定同位素;

    Si有amu=28、29、30三种稳定同位素;F和H则分别只有amu=19和1一种稳定同位素;(修正下,谢谢timstoICPMS老师的提示)ICP本身处于大气压下,O的存在不可避免,且O有amu=16、17、18三种稳定同位素。(再增加一个O来源:一般情况下,除非是联用其他进样系统,否则ICPMS多为水溶液进样,这其间必然含有大量的氧元素)

    由于样品是硅,所以前处理过程无论如何都无法将硅赶干净的,那么SiF、SiFH、SiO、SiOH多种同位素组合覆盖了46、47、48、49、50,这样对Ti造成了全面的干扰。

    另一方面,干扰和空白类似,只要在合理的范围之内都可以接受的。那么这个时候可间接通过监测SiOH(45,cool模式下)来判定硅含量大约是多少。

    最后,问题就是:如何判断Si含量低于多少,SiF、SiFH对Ti的干扰才低于可接受的程度?这个问题回到本质就是:在ICP-MS调谐参数固定下,SiF、SiFH的产率如何半定量/定量计算?

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  • nphfm2009

    第2楼2013/07/05

    应助达人

    Ti有amu=46、47、48、49、50五种稳定同位素;

    Si有amu=28、29、30三种稳定同位素;F和H则分别只有amu=19和1一种稳定同位素;
    Ti46不是没有涵盖吗

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  • nphfm2009

    第3楼2013/07/05

    应助达人

    对于这些多来源的干扰,是否有研究文献或者公式来定量/半定量地计算它们的贡献呢? 这个不是可以通过测空白液中对应的核质数来计算该仪器条件下的产率吗

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  • timstoicpms

    第4楼2013/07/07

    28Si18O 29Si17O 30Si16O会干扰46Ti

    再考虑到SiOH产率比SiO高,46Ti还会受到 28Si17O1H 29Si16O1H干扰

    nphfm2009(nphfm2009) 发表:Ti有amu=46、47、48、49、50五种稳定同位素;
    Si有amu=28、29、30三种稳定同位素;F和H则分别只有amu=19和1一种稳定同位素;
    Ti46不是没有涵盖吗

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  • timstoicpms

    第5楼2013/07/07

    我看懂你的帖子意思,但只能间接回答。举例:31P会受到14N16O1H 14N17O 15N16O 干扰

    14N自然丰度99.634% 15N自然丰度0.366%
    16O自然丰度99.762% 17O自然丰度0.038%

    14N17O的丰度组合概率就是 99.634%×0.038%= 万分之3.786
    15N16O的丰度组合概率就是 0.366%×99.762%= 万分之36.513
    14N16O1H 的丰度组合概率是 99.634%×99.762%*99.99%= 万分之9939.69

    (1) 14N17O与15N16O都是N-O组合,N-O产率相同,我们可以毫无疑问地说 15N16O的背景贡献比14N17O高
    (2) 但我们很难断言:14N16O1H的背景贡献比15N16O高,因为我们不知道 N-O-H与N-O产率关系。
    (3) 假设N-O-H产率与N-O旗鼓相当(哪怕N-O-H产率只有N-O的百分之一),那么14N16O1H背景贡献强于 15N16O;但假设N-O-H 产率只有N-O的千分之一,情况就发生逆转了。

    所以问题就归结为:各种多原子团(双原子、或者三原子)的产率。以我的实践经验,当ICP-MS调谐参数固定时,多原子团产率(或者说仪器状态)并不是固定的。上午调谐测样,中午熄火吃饭午休,下午再来点火,我都会微调一下。

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  • 光哥

    第6楼2013/07/07

    应助工程师

    谢谢您的指点。我这个问题的缘起于以前测试P的时候,用的是冷焰测试PO,但是基体是硅,且使用的是HF,无可避免(47)SiF的干扰。在我记忆里,对方AE告诉我的是,当amu=45小于一定的数值时候,SiF对47的干扰就基本可以忽略。
    但是那个只是个特例,当时对方也没告诉我45低于那个数值是怎么计算得到的,现在测硅里的钛就遇到了同样的问题了。所以后来我一直在想是否有理论的支持,哪怕是半定量计算离子产率的方法都好。毕竟“渔”比“鱼”至少也多了三点水吧。

    timstoICPMS(timstoICPMS) 发表:我看懂你的帖子意思,但只能间接回答。举例:31P会受到14N16O1H 14N17O 15N16O 干扰

    14N自然丰度99.634% 15N自然丰度0.366%
    16O自然丰度99.762% 17O自然丰度0.038%

    14N17O的丰度组合概率就是 99.634%×0.038%= 万分之3.786
    15N16O的丰度组合概率就是 0.366%×99.762%= 万分之36.513
    14N16O1H 的丰度组合概率是 99.634%×99.762%*99.99%= 万分之9939.69

    (1) 14N17O与15N16O都是N-O组合,N-O产率相同,我们可以毫无疑问地说 15N16O的背景贡献比14N17O高
    (2) 但我们很难断言:14N16O1H的背景贡献比15N16O高,因为我们不知道 N-O-H与N-O产率关系。
    (3) 假设N-O-H产率与N-O旗鼓相当(哪怕N-O-H产率只有N-O的百分之一),那么14N16O1H背景贡献强于 15N16O;但假设N-O-H 产率只有N-O的千分之一,情况就发生逆转了。

    所以问题就归结为:各种多原子团(双原子、或者三原子)的产率。以我的实践经验,当ICP-MS调谐参数固定时,多原子团产率(或者说仪器状态)并不是固定的。上午调谐测样,中午熄火吃饭午休,下午再来点火,我都会微调一下。

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  • nphfm2009

    第7楼2013/07/08

    应助达人

    另一方面,干扰和空白类似,只要在合理的范围之内都可以接受的。那么这个时候可间接通过监测SiOH(45,cool模式下)来判定硅含量大约是多少。

    原理?不明白

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  • 光哥

    第8楼2013/07/08

    应助工程师

    具体的原因,当时我也没能问到,工程师也没和我说过。仅仅是告诉我,当amu=45低于一定的数值时候,Si、F、H的组合对47的影响才可以忽略不计。

    后来我想这里应该就是涉及到离子产率的问题了——当确认待测液中的Si低于一定数值的时候,从离子产率换算回来的SiF、SiFH所产生的counts,造成的干扰不足以对PO产生影响。

    这里只是我为了说明我的疑惑而举的实际例子,如果各位在实际实验过程中有遇到类似的问题,欢迎举例讨论

    nphfm2009(nphfm2009) 发表:另一方面,干扰和空白类似,只要在合理的范围之内都可以接受的。那么这个时候可间接通过监测SiOH(45,cool模式下)来判定硅含量大约是多少。

    原理?不明白

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