光哥
第1楼2013/07/04
不知道我这问题是否阐述清楚,用个实例来说明吧:
以之前发过的帖子里,硅里面的Ti为例:
Ti有amu=46、47、48、49、50五种稳定同位素;
Si有amu=28、29、30三种稳定同位素;F和H则分别只有amu=19和1一种稳定同位素;(修正下,谢谢timstoICPMS老师的提示)ICP本身处于大气压下,O的存在不可避免,且O有amu=16、17、18三种稳定同位素。(再增加一个O来源:一般情况下,除非是联用其他进样系统,否则ICPMS多为水溶液进样,这其间必然含有大量的氧元素)
由于样品是硅,所以前处理过程无论如何都无法将硅赶干净的,那么SiF、SiFH、SiO、SiOH多种同位素组合覆盖了46、47、48、49、50,这样对Ti造成了全面的干扰。
另一方面,干扰和空白类似,只要在合理的范围之内都可以接受的。那么这个时候可间接通过监测SiOH(45,cool模式下)来判定硅含量大约是多少。
最后,问题就是:如何判断Si含量低于多少,SiF、SiFH对Ti的干扰才低于可接受的程度?这个问题回到本质就是:在ICP-MS调谐参数固定下,SiF、SiFH的产率如何半定量/定量计算?
timstoicpms
第5楼2013/07/07
我看懂你的帖子意思,但只能间接回答。举例:31P会受到14N16O1H 14N17O 15N16O 干扰
14N自然丰度99.634% 15N自然丰度0.366%
16O自然丰度99.762% 17O自然丰度0.038%
14N17O的丰度组合概率就是 99.634%×0.038%= 万分之3.786
15N16O的丰度组合概率就是 0.366%×99.762%= 万分之36.513
14N16O1H 的丰度组合概率是 99.634%×99.762%*99.99%= 万分之9939.69
(1) 14N17O与15N16O都是N-O组合,N-O产率相同,我们可以毫无疑问地说 15N16O的背景贡献比14N17O高
(2) 但我们很难断言:14N16O1H的背景贡献比15N16O高,因为我们不知道 N-O-H与N-O产率关系。
(3) 假设N-O-H产率与N-O旗鼓相当(哪怕N-O-H产率只有N-O的百分之一),那么14N16O1H背景贡献强于 15N16O;但假设N-O-H 产率只有N-O的千分之一,情况就发生逆转了。
所以问题就归结为:各种多原子团(双原子、或者三原子)的产率。以我的实践经验,当ICP-MS调谐参数固定时,多原子团产率(或者说仪器状态)并不是固定的。上午调谐测样,中午熄火吃饭午休,下午再来点火,我都会微调一下。
光哥
第6楼2013/07/07
谢谢您的指点。我这个问题的缘起于以前测试P的时候,用的是冷焰测试PO,但是基体是硅,且使用的是HF,无可避免(47)SiF的干扰。在我记忆里,对方AE告诉我的是,当amu=45小于一定的数值时候,SiF对47的干扰就基本可以忽略。
但是那个只是个特例,当时对方也没告诉我45低于那个数值是怎么计算得到的,现在测硅里的钛就遇到了同样的问题了。所以后来我一直在想是否有理论的支持,哪怕是半定量计算离子产率的方法都好。毕竟“渔”比“鱼”至少也多了三点水吧。
光哥
第8楼2013/07/08
具体的原因,当时我也没能问到,工程师也没和我说过。仅仅是告诉我,当amu=45低于一定的数值时候,Si、F、H的组合对47的影响才可以忽略不计。
后来我想这里应该就是涉及到离子产率的问题了——当确认待测液中的Si低于一定数值的时候,从离子产率换算回来的SiF、SiFH所产生的counts,造成的干扰不足以对PO产生影响。
这里只是我为了说明我的疑惑而举的实际例子,如果各位在实际实验过程中有遇到类似的问题,欢迎举例讨论