【讨论】ＩＣＰ－ＯＥＳ碱金属分析干扰影响因素及解决方案？

软件界面真友好!

我用的操作系统件还是DOS,ICP-AES应用软件

还用的Turbo Pascal编写的,真是太落后了!

测碱金属,功率不应过高！

应通过实验确定其最佳仪器参数!

如上所说，功率不能用太高，另外，气流量也应该适当的调节。

从图上看，Li 的存在干扰了K的谱线，在背景点的选取上需要做一些功夫，

还应注意下观察高度。碱金属低电位元素，是易激发的。

偶在补充一点：做碱金属分析时就尽可能的采用大的雾化压力，使气溶胶在中心通道内的相对停留时间减短及伴随的中心通道温度的降低，在一定程度上克服了电离的干扰。

1。可以考虑用标准加入法进行测定。
2。看软件象热电公司的仪器，可以考虑拍两张全谱，根据有无钾的两种谱图相减，进行测定。

呵呵！其实这个碱金属分析看一下第一张谱图及测试结果，准确性是绝对可以的。
后面的之所以有些干扰峰是因为我特意用了浓度很低，我只是在水中加了极少量的K元素来体现一下这个效果的。

第二张图 的干扰峰是La产生的吗 ？
从图上看两个干扰缝和k的峰基本可以分开，只要干扰元素含量不高，结果基本不会受影响。当然，如果光栅的分辨率更高的话那两个峰分的就更开了，更每问题了。
不知碱金属的检出限有多少？
我做过一次，检出限比原子吸收差的太远。
不过我的仪器太老，没法调功率，大概是900W吧 。
另外，做碱金属观测高度是不是应该高一点？

你的icp太老了吧 ，新仪器的界面都很好。
我的仪器也是dos系统，20年前的仪器 ………………
上次电脑坏了，换了个电脑，结果没法看profile,
工程师说只支持pci的显卡，而且现存要小于8M,……

您好！ 看了您制作的这几张图 受益匪浅！ 仍然有几个问题 想和您讨论。

通过图，您是想说明 ， 谱图右侧收到La的干扰，为了消除干扰，您扣除右边的背景，从原来的36.38 改为35.96。从效果上看，

应该是降低了干扰，但是我觉得La的谱线还是对待测元素K，有贡献。因为La左侧的谱线还是有一点混合到了K的谱线里面

我个人认为 这个时候采用干扰系数法 还是有必要的

想和你讨论讨论 ？？？？

图中绿色部分 就是我认为La对K的贡献， 实际上扣背景是扣不掉的。

LiveBandit(wangfeidown) 发表:制作了几张谱图，大家讨论题目的问题：
较为标准的碱金属谱图如下：

浓度较低时的背景干扰后的谱图：