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6-10nm的非晶态二氧化硅层（硅衬底）采用何法较准备测量

  • haipinghu008
    2015/02/02
    • 私聊

扫描探针显微镜SPM/AFM

  • 在多晶制绒、扩散、去磷硅玻璃后的硅片上用某设备长超薄的二氧化硅层，其厚度预计约6nm-10nm，这个厚度是根据亲水性预估的，因硅片的亲水性较好，一般呈亲水性，其厚度在6nm以上？多晶硅片绒面的大小：长端长度为4-7um，窄端长度为2-4um，深度为1-4um，不知用什么方法可以较准确地测量出该硅片上面的超薄二氧化硅层？
    如不能，用硅抛光片代替常规硅片，直接在该设备上长二氧化硅层，因抛光片表面非常平整且未掺杂，预计生成的二氧化硅层厚度更薄，不知可在抛光片上测量其生长的二氧化硅层厚度？
    谢谢！
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    +关注 私聊

  • haipinghu008

    第1楼2015/02/02

    自己顶一下，请路过的老师看看

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  • 清风侠

    第3楼2015/03/04

    硅片上的二氧化硅薄膜的厚度可否考虑用XPS测试一下。

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  • haipinghu008

    第4楼2015/04/03

    XPS有点小贵啊，不知准确度怎么样？谢谢！

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  • 清风侠

    第5楼2015/04/04

    如果可以损坏样品的话,用XPS采取离子刻蚀,测得的厚度准确度应该还可以,可以一试.也可以尝试用一下变角XPS测试/

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