我们在使用[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp]液质联用仪的过程中，经常会出现化合物残留或者污染现象，该现象在一定程度上影响了定量下限的检测，亦影响了实验结果的准度和精度。为了更好的用好[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp]液质联用仪，避免污染/残留现象，我们在此讨论一下污染/残留的产生及避免。
一、污染/残留的区分原则
在发现空白里面有化合物的干扰峰后，我们首先要判
断该干扰峰是由系统污染引起的，还是由系统残留导致的。主要的原则是：连续进空白多针，如果干扰峰的响应有逐渐降低的趋势，可判断为系统残留；如果干扰峰响应基本保持不变，则可能是系统污染。如果是污染导致，可能比较大的可能性在于流动相或者样品污染所致。本文中我们主要讨论系统的残留。
二、残留分类
1、确定是LC还是MS残留
a)使用干净的流动相清洗注射器和ESI probe
b)再用注射器注入流动相到MS内(例如50:50的流动相), 而不通过LC系统.
c)如果残留的水平下降, 污染来自LC系统
d)如果残留的水平一样, 污染来自MS系统
2、LC残留
a)检查色谱柱 ——UPLC或HPLC色谱柱会保留微粒、沉淀的蛋白、和其它的有机化合物而污染色谱柱，这些污染物会减小柱子的寿命、增加柱子的工作压力、改变柱子的选择性、增加背景噪声
b)检查进样器——把清洗液泵入进样器，使用full loop 进样方式重复把清洗液注入系统中进行清洗，再用回流动相清洗系统，运行样品，如果污染还在，检查是否来自于样品、稀释剂、样品容器
c)检查稀释用溶剂、水、酸——如水、甲醇或乙氰及0.1%甲酸的混合液到质谱仪内，如果没有污染，则污染来自于样品。
3、MS残留
质谱容易引起残留的主要部件如下：
-ESI probe (probe tip, capillary, unions)
-Sample cone(取样锥口)
-Lockspray baffle(锥口取样阀)
-Ion source block
-PEEK tubing connecting column outlet to API source
-六通阀
-LC tubing
如确认残留系MS引起，首先需要清洗以上部件，如清洗无法祛除的，需要更换。
三、清洗仪器：
1、清洗LC系统——使用最高纯度的溶剂清洗LC系
统中的污染，使用下述混合溶剂清洗，减少背景（使用25%乙氰25%甲醇25%异丙醇25%水0.2%甲酸）清洗完后，使用50%的乙氰或流动相洗去清洗液，且清洗时同时大体积进样清洗液。
2、清洗MS系统——移去、清洗或更换可能产生污染的MS部件，使用高纯度的溶剂清洗，把部件表面的污染物清洗掉。 在清洗过程中要避免二次污染或是对新部件的污染，按清洗方法进行清洗，有时一次清洗或更换一个部件。也可以一次对所有怀疑的部件进行清洗和更换。在清洗过程中要使用高纯的溶剂，戴上洁净的手套。 在擦拭部件时要使用清洁的棉签。
四、如何避免残留
1.首先使用使用洁净的，无颗粒的溶剂——流动相总是使用色谱纯、无颗粒的溶剂和试剂(最好是原装进口)，且试剂必需已经以0.2μm 或更小孔径过滤。
2.防止微生物生长——水性流动相尽量每天新鲜配置。
3.尽量减少流动相中的添加剂——为了减小基线背景信号，使用最低浓度的和色谱兼容的附加剂（例如：0.1%甲酸，不要使用1%） 使用最高质量(进口色谱纯)的附加剂 ，同时使用可挥发的、和质谱兼容的附加剂，例如ammonium (NH4+), acetate, formate, or carbonate.
4.正确制备样品和流动相——使用洁净的样品瓶、盖子。小心劣质的瓶垫可能会有增塑剂的污染，最好使用0.22um孔径的膜过滤样品。
[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Yp]液质联用仪的高灵敏度，给我们带来了痕量检测的精度和准度，但同时这就要求我们在操作过程中一定谨慎操作，避免将流动相、试剂瓶或者样品污染，从而干扰我们的检测。
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