利用氩离子研磨技术制备完美EBSD样品
微电子材料样品在做失效分析扫描电镜图像拍摄之前，需要准确研磨到目标位置，尽可能的避免样品研磨面的应力损伤和污染，以便获得清晰的样品断面形貌，或进行元素定性定量分析等。
本次讲座介绍如何机械研磨、离子束切割抛光方式和超薄切片方式制备扫描电镜样品。徕卡精研一体机TXP可以对样品进行精确定位研磨，高效率的处理以往难以制备的样品。徕卡三离子束切割抛光仪TIC3X可对样品进行无应力损伤和无磨料污染的氩离子束切割抛光，确保样品适合高倍率扫描电镜图像观察，或这EBS和EBSD分析。徕卡超薄切片机UC7是利用钻石刀对样品进行精细准确切割，非常适合于铜、铝和高分子膜层的截面制备。
时间：2017-06-30 14:00
讲师：林初诚
讲师简介
中国科学院上海硅酸研究所测试中心工程师，长期从事测试工作，对SEM，EDS，EBSD及相关制样技术有深入研究。在样品测试方面有丰富经验，可以根据不同需求制备各种高难度样品协助研究。
报名链接：
http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/2579
孚光精仪
第3楼2017/08/04
这款457.9nm-514.5nm激光器是把激光头和电源集成在一起的氩离子激光器，是这个类型中尺寸最小的458-514nm激光器，结构紧凑，458-514nm激光器具有良好的表现，作为氩离子激光器适合多种应用。
这款457.9nm-514.5nm激光器由美国Modu-Laser公司制造，孚光精仪作为美国Modu-Laser公司总代而进口销售，孚光精仪是中国领先而专业的进口激光器件服务商。
457.9nm-514.5nm激光器技术参数：
| 型号 | ML150 | 457/20 | |
| 尺寸 | 13.0" x 7.6" x5.1" | 19.2‘’x7.6''x5.4‘’ |
| 波长 | 457.9-514.5nm | 457.9-514.5nm |
| 最大功率 | 150mW | 300mW |
| 光束模式 | TEM00 | TEM00 |
| 光束直径(1/e^2) | 0.65mm | 0.75mm |
| 光束发散角 | 0.95mrad | 0.95mrad |
| 光束指向稳定性 | <30urad | <30urad |
| 功率飘逸（预热后） | <+/-1% | <+/-1% |
| 噪音 | <1% RMS | <1% RMS |
| 偏振比 | >100：1 | >100:1 |
| 预热时间 | 5分钟 | 10分钟 |
| 电源要求 | 100-265VAC, 50/60HZ | 同左 |
| 功率消耗 | <1500W | <3000W |
| 重量 | 约6.4Kg | 约10Kg |
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