碳钢和低合金钢中的酸溶硅和总硅区别在哪里？不同测试方法之间区别有多大？

应助达人

1.如果我有一个材料Si做出来是1.9% ，有什么办法可以盖CNAS和CMA章吗？
检测报告盖CNAS和CMA章，相关的检测方法，需要经过CNAS认可和CMA让证才可以哦。

应助达人

1.如果我有一个材料Si做出来是1.9% ，有什么办法可以盖CNAS和CMA章吗？
这种情况下只能通过ICP方法消解后稀释再测，就可以满足盖章要求了。
2.还有ICP做出来的酸溶硅和直读的总硅差距会有多少？比如1.90的含量，有小伙伴试过吗？
这个不好说，各有优缺点吧
两种仪器原理相同，但是发射光谱原理；
不同点：
一、ICP必须是液体通过蠕动泵进样，即所有的样品都需要酸消解后才能分析；光电直读光谱分析的样品是块状金属，要求表面光洁并且具有一定的致密程度（例如中间合金就无法分析）
二、ICP分析范围包括：金属、非金属、固态、液态，单基本都需要前处理；光电直读只能分析块状金属
三、ICP与光电直读的分析时间大约都在1分钟之内，但ICP样品需要较长的前处理时间，所以ICP大多数时间主要用来成分分析，同时可以作为仲裁结果；直读光谱的前处理比较简单，所以分析速度快，可以作为生产的质量中间控制环节，单结果不能作为仲裁
四、标样，ICP可通过标准溶液配置标样，灵活性较强；光电直读因为是分析块状金属，所以标样也必须是块状的，所以标样相对来说灵活性差，基本上都需要购买，除非你单位有超强的实力可以自行制作

这个含量已经不满足标准的范围了呀

应助达人

1.如果我有一个材料Si做出来是1.9% ，有什么办法可以盖CNAS和CMA章吗？
你的一个材料Si做出来是1.9% 已经超出相关标准最大定量范围上限，可以走偏离方法认可，只要能被认可的是可以盖CNAS和CMA章，
2.还有ICP做出来的酸溶硅和直读的总硅差距会有多少？比如1.90的含量，有小伙伴试过吗？
直读光谱仪一般采用电火花,电弧或者辉光放电的方式把样品打成蒸汽进行激发的。 一般是用于在线生产的，时间要求很高，几分钟就要求有结果的。直读毕竟只是分析的表面成分，还存在一个样品均匀性的问题 。ICP必须是液体通过蠕动泵进样，即所有的样品都需要酸消解后才能分析；ICP分析范围包括：金属、非金属、固态、液态，单基本都需要前处理；直读光谱只能分析块状金属。ICP要比直读光谱的检出限小,精度高，具体差距还是要以具体不同样品去说

应助达人

可以通过前处理，然后稀释再测。