量产型 薄膜封装专用ALD系统
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参考价:面议
型号: GDL
产地: 韩国
品牌: NCD
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量产型 薄膜封装用 原子层沉积系统(R2R ALD)主要应用于有机半导体((Micro)OLED,QD,OPV,钙钛矿光伏....)在线批量生产的薄膜封装(TFE).可对平板Panel或柔性(Flexible)基底进行卷对卷(R2R)封装.


在OLED Panel厂产线有广泛应用!


主要应用

-硅基WVTR(水蒸气透过率)的阻挡层

-Micro-OLED封装层

-柔性衬底用阻挡层

-OLED封装层

-柔性OLED显示器、柔性OLED照明、量子点、柔性太阳能电池等高水分阻隔膜的卷对卷(R2R)ALD工艺



特点

1.ALD高k介质,厚度均匀性好,保形步进覆盖。

2.先进的工艺套件和小体积的短周期室

3.实现了ALD机构(行波法)

4.小脚印全集成工艺模块

5.过程控制方便,供气线路长度小。


应用尺寸:370*470mm,730*920mm,1500*1850mm....



南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供NCD量产型 薄膜封装专用ALD系统GDL,NCDGDL产地为韩国,属于其他,除了量产型 薄膜封装专用ALD系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供IGZO沉积用热原子沉积设备(LTPO)、(等离子)原子层沉积系统(PE)ALD、太阳能电池钝化用ALD设备,McScience中国代表处客服电话400-860-5168转1730,售前、售后均可联系。

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