粉末热沉积ALD设备

参考价：面议

型号：	HPALD
产地：	韩国
品牌：	伯奢咏怀
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核心参数

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产品详情

粉末热沉积ALD是？

用化学气相沉积法（CVD）让粉末反应出Precursor or Gas均匀的沉积多层A单位厚度的薄膜

特点：

- 超小型粉末热原子沉积

- CVD法超薄沉积（Precursor or Gas）

- 利用表面反应进行多层超薄膜沉积

- 腔室加热：max 1200℃

- 结构简单，价格合理

粉末进行原子沉积目的：

粉末的导电性向上/分散性向上/化学反应向上/Barrier Coating

规格：

序号	规格 / 型号	HPALD-mini	HPALD-3	备注
1	容量（L）	>0.2	3	可制作更大尺寸
2	加热（Max℃）	1000/1200	&	选择温度
3	precursor（通道）	1~2	1~3	加热箱（Max 300℃）
4	气体（通道）	Max3	Max4	MFC&控制器
5	腔室	石英或SUS	石英或SUS	或inconel
6	控制	手动或自动	手动或自动
7	真空泵	Dry/Rotary	Dry/Rotary

可选规格#2，3，4，5，6，7

- 选项：等离子

- 可根据用户需求定制

测试数据：

- 碳硅金属粉末涂层

- 条件：Silicon powder + Gas（CH₄）On 1000℃ x 1 Hr

- 粉末ALD测试前后进行粉体电阻测试

联系方式：

南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供伯奢咏怀粉末热沉积ALD设备HPALD，伯奢咏怀HPALD产地为韩国，属于原子层沉积设备，除了粉末热沉积ALD设备的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多原子层沉积设备,McScience中国代表处客服电话400-860-5168转1730，售前、售后均可联系。

粉末热沉积ALD设备

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