手动型晶圆,光掩膜和基板清洗系统

报价 ¥30万 - 50万

品牌

暂无

型号

SCS112/SCSe124/SCSe126

产地

美洲美国

应用领域

暂无

湿法显影掩膜版清洗系统

手动型SCS112

SCS112.png

SCS112型是一款高效率手动型的系统,专门设计用于在划片或划片后清洗晶片。可通过施加高压DI水射流或雾化喷嘴来清洁安装在环(抓环)或胶片框架上的晶圆,然后使用高转速,氮气辅助或红外加热灯进行快速干燥。该系统最大可处理8英寸晶圆。

功能:

  • 可处理高达8英寸的晶圆,包括未安装的晶片以及胶带环形和薄膜框架安装晶片。

  • 振荡高压直流水,风扇射流组装(取决于高达1500或2000磅/平方英寸 配置上)或雾化喷雾喷嘴,高效清洁。

  • 快速有效干燥的氮气吹扫和循环结束时的氮晶片提升。

  • 微处理器控制并储存多种配方。

  • 直流无刷主轴电机变速。

  • DI水净化,营造无细菌系统。

  • 内置安全联锁和正极盖,运行期间锁定。

产品参数:

  • 产品:晶圆,光掩膜和基板清洁系统 

  • 型号:SCS112

  • 可用机械臂:1

  • 最大基板尺寸:高达8英寸的晶圆片

  • 最大主轴速度:2500

  • 配方:最多3

  • 分配:1

  • 尺寸:26英寸宽x 21英寸深x 40英寸高

  • 重量:约200磅

  • 功率:220伏交流电,10安培,50/60赫兹


湿法显影掩膜版清洗系统

手动型SCSe124

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SCSe124型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案。该系统非常可靠且具有成本效益,它经过验证,拥有各种清洁技术。SCSe124可以配置几种不同的清洁选项,包括高压DI水,雾状喷嘴,刷子,Megasonic喷嘴等等。快速有效的干燥技术是结合了可变转速和可选项加热DI水,氮气辅助或加热灯。SCSe124具有微处理控制器,该控制器可调整过程参数,并储存多达10个程序。

功能:

  • 可处理直径高达10英寸的基板。

  • 主轴组件带有直流无刷电机(可升级以获得更多功能)。

  • 可调节机械臂速度和行程位置。

  • 径向排气腔,可实现最大层流。

  • 独立式聚丙烯腔室。

  • 微处理器可控制10个程序段。

  • 内置安全联锁。

  • 按钮盖启动 打开/关闭。

  • 触摸屏图形用户界面(GUI),易于编程和安全锁定以及屏幕错误报告。

  • 最多可使用2个机械臂。

产品参数:

  • 产品:晶圆,光掩膜和基板清洁系统 

  • 型号:SCSe124

  • 可用机械臂:2

  • 最大基板尺寸:直径10英寸晶圆片

  • 最大主轴速度:2500

  • 配方:最多10

  • 分配:12


湿法显影掩膜版清洗系统

手动型SCSe126

SCS126-1.png

SCSe126型是用于光掩模,晶圆和基材的亚微米级清洁的理想解决方案。该系统非常可靠且具有成本效益,它经过验证,拥有各种清洁技术。SCSe126可以配置几种不同的清洁选项,包括高压DI水,雾状喷嘴,刷子,Megasonic喷嘴等等。快速有效的干燥技术是结合了可变转速和可选项加热DI水,氮气辅助或加热灯。SCSe126具有微处理控制器,该控制器可调整过程参数,并储存多达10个程序。

功能:

  • 可处理直径高达10英寸的基板。

  • 主轴组件带有直流无刷电机(可升级以获得更多功能)。

  • 可调节机械臂速度和行程位置。

  • 径向排气腔,可实现最大层流。

    独立式聚丙烯腔室。

    微处理器可控制10个程序段。

    内置安全联锁。

    按钮盖启动 打开/关闭。

    触摸屏图形用户界面(GUI),易于编程和安全锁定以及屏幕错误报告。

    最多可使用4个机械臂。

产品参数:

  • 产品:晶圆,光掩膜和基板清洁系统 

  • 型号:SCSe126

  • 可用机械臂:4

  • 最大基板尺寸:直径10英寸晶圆片

  • 最大主轴速度:2500

  • 配方:最多10

  • 分配:12


售后服务

1年

1次线上培训

因产品质量问题免费保修(各种消耗品除外),仪器提供全面维护,使之处于正常工作状态

产品质保期内本公司提供36小时内的维修服务响应(除节假日外),以最快的速度派遣

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