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1.产品概述：
SUSS MicroTecs ASx 系列为加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技术节点提供了先进的烘烤、显影和清洁方法。其可靠性、稳定性和高性能使平台能够满足无损加工掩模的要求，用于 248 nm 和 193 nm 光刻工艺。
2.产品工艺：
晶圆尺寸：4、6、8英寸
小片的用工具
符合 SEMI S2、S8、S13
CE认证
符合欧洲标准和机械指令 2006/42/EC、EMC- 2004/108/EC 和低电压指令 2006/95/EC
DIN ISO 14.644 2
SECS/GEM 200/300 mm 工厂自动化标准接口
3.产品优势：
采用A+喷嘴在整个掩模上连续涂布介质，使显影的冲击力小化。
显影剂主动脱气，可防止微气泡的产生，实现低的缺陷计数。
将PEB升为含APB的集群设备
高效的化学过滤（胺/酸）和精确的温、湿度控制
含SMIF装/卸载的全自动化
增强的工艺控制与监测功能
与曝光后烘烤系统APB9500结合，获得佳效果
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
清洗设备信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于清洗设备报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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