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批处理式自然氧化膜去除设备 RISE-300

报价 ¥100万 - 150万

品牌

暂无

型号

批处理式自然氧化膜去除设备 RISE-300

产地

亚洲日本

应用领域

暂无

批处理式自然氧化膜去除设备 RISE-300

批处理式自然氧化膜去除设备RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等难以去除的自然氧化膜的批处理式预清洗装置。可处理200mm,300mm尺寸晶圆。

 

产品特性 / Product characteristics

高产率以及低CoO

良好的刻蚀均一性(小于±5%/批)和再现性

干法刻蚀

Damage-Free(远端等离子、低温工艺)

自对准接触电阻仅为湿法的1/2

灵活的装置布局

高维护性(方便的侧面维护)

300mm晶圆批处理:50枚/批

 

产品应用 / Product application

自对准接触形成工艺前处理

电镀工艺前处理

晶膜生长前处理

Co/Ni自对准多晶硅化物的前处理


售后服务

1年

技术人员现场培训

2个月1次

软件免费重装,硬件维修

24小时到达

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