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微波等离子去胶机VP-RS20真空腔体不锈钢材质，腔体容积20升，功率500W，射频频率13.56MHz，能对材料起到去胶、清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，不损伤样品，适用于芯片去胶、晶圆去胶、半导体刻蚀、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA等离子体去胶处理。
售后服务
2年
是
无
提供相关技术支持及服务
终身维护服务
对等离子清洗主机保修2年
24小时内安排技术人员保修
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