液体原料CVD设备 PD-200STL
负载锁定系统,最大可达Ø200毫米(8")
PD-200STL是一种用于研发的低温(80~400℃)、高速(>300nm/min)等离子体增强型CVD系统。Samco独特的液态源CVD系统采用自偏置沉积技术和液态TEOS源,以低应力沉积SiO2薄膜,从薄膜到极厚的薄膜(高达100μm)。PD-200STL具有时尚、紧凑的设计,只需要最小的洁净室空间。
加工范围达Ø200毫米(8")。
阴极耦合自偏析沉积技术可以实现低应力薄膜的高速(>300nm/min)沉积。
通过低温沉积,可以在塑料表面上沉积薄膜。
高纵横比结构的优秀阶梯覆盖率
使用锗、磷、硼液源控制折射率。
PD-200STL设计时尚、紧凑,只需要最小的洁净室空间。
塑料材料上保护膜的沉积
在3D LSI的通孔侧壁上沉积绝缘膜。
光波导的制造(光纤芯/包层)。
制造用于微型机械生产的面罩。
覆盖高纵横比结构,如MEMS器件。
SAW设备的温度补偿膜和钝化膜。
60天
1年
安装调试现场免费培训
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