IoN系列等离子系统具有多种射频电源选项,可满足客户的特定工艺和产量要求。 我们提供不同腔体和电配置,大腔体可达 1200 升。
PVA TePla 的 IoN 10Q 是一款桌式全功能射频等离子机,可用于批量晶圆去胶和清除残胶,为实验室和量产使用而设计,多可处理 25片晶圆,晶圆大尺寸为 150 毫米。
PVA TePla的IoN 100-40Q是一款功能齐全的射频等离子机,可用于批量晶圆去胶和清除残胶,为实验室和量产使用而设计,多可处理50片晶圆,晶圆大尺寸为200毫米。
PVA TePla 的 IoN 单片晶圆去胶机是一款功能齐全的先进射频等离子机,可用于单片晶圆去胶和清除残胶,为实验室和量产使用而设计,可处理大的晶圆为200毫米。
PVA TePla 的 IoN 200 是一款功能齐全的射频等离子机 ,可用于表面改性,设计用于实验室和处理大型基板或大批量生产。 该机台还为等离子增强化学气相沉积应用提供了对应的功能。
PVA TePla 的 IoN 40 是一款功能齐全的桌式先进射频等离子机,可用于表面改性,为实验室和量产使用而设计,适用于处理较小的基板或中小产量。该机台还为等离子增强化学气相沉积应用提供了对应的功能。
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