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1.产品概述：
NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研发的离子束沉积设备，VEECCO凭借25年来在离子束产品域建立导地位，实现当下无缺陷的EUV掩模空白。
2.产品工艺：
光掩模制造需要高水平的颗粒控制，同时沉积复杂的多层薄膜结构。Veeco的NexusIBD-LDD离子束沉积系统可以应对这一挑战。自1990年代以来，Veeco已成功服务于光掩模市场，多年的学习造就了当先进的系统。IBD-LDD系统是当EUV掩模坯料上的钼（Mo）和硅（Si）多层沉积和钌（Ru）封端层沉积的理想选择，以及其他需要低缺陷水平和先进薄膜的掩模应用。
3.产品优势：
经过生产验证的平台
低的缺陷密度
优异的均匀性和可重复性
高反射率
在同一腔室中沉积多种材料
可以集成到其他过程模块中，集成到集群工具中
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
NEXUS IBD-LDD 离子束沉积设备信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于NEXUS IBD-LDD 离子束沉积设备报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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